[发明专利]双面镀膜玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃工艺领域，特别是涉及一种双面镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

目前大部分液晶显示用玻璃镀膜产品所镀的膜层为SiO₂+ITO膜层，这样镀膜出来的产品，在550nm处透过率约为90%，镀膜前后透过率的比值为97%左右，视觉效果较差，大部分液晶显示用玻璃厂家都可以做到这种质量的触摸屏产品，由于技术指标较低，在日益激烈的触摸屏行业竞争处于越来越不利的地位，随着人们对视觉品质的不断追求，生产更高透过率的触摸屏产品将拥有更大得市场。

发明内容

基于此，有必要提供一种透过率较高的双面镀膜玻璃及其制备方法。

一种双面镀膜玻璃，包括玻璃基板，在所述玻璃基板的一面设有第一增透膜层，在所述玻璃基板的另一面依次层叠有第二增透膜层及ITO膜层；

其中，所述第一增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板一面上的第一Nb₂O₅膜层、第一SiO₂膜层、第二Nb₂O₅膜层及第二SiO₂膜层；

所述第二增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板另一面上的第三Nb₂O₅膜层、第三SiO₂膜层、第四Nb₂O₅膜层及第四SiO₂膜层。

在其中一个实施例中，所述玻璃基板为TFT玻璃。

在其中一个实施例中，所述TFT玻璃的厚度为0.2mm~1mm。

在其中一个实施例中，所述第一Nb₂O₅膜层及所述第三Nb₂O₅膜层的厚度为12nm～14nm；所述第二Nb₂O₅膜层及所述第四Nb₂O₅膜层的厚度为110nm~114nm。

在其中一个实施例中，所述第一SiO₂膜层及所述第三SiO₂膜层的厚度为30nm~34nm；所述第二SiO₂膜层的厚度为83nm~86nm；所述第四SiO₂膜层的厚度为54nm~57nm。

在其中一个实施例中，所述ITO膜层的厚度为12nm~16nm。

一种双面镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：

采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的一面上依次形成第一Nb₂O₅膜层、第一SiO₂膜层、第二Nb₂O₅膜层及第二SiO₂膜层，以形成第一增透膜层；

采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的另一面上依次形成第三Nb₂O₅膜层、第三SiO₂膜层、第四Nb₂O₅膜层及第四SiO₂膜层，以形成第二增透膜层；及

采用磁控溅射镀膜的方法，在所述第二增透膜层上形成ITO膜层，即得双面镀膜玻璃。

在其中一个实施例中，所述第一Nb₂O₅膜层及所述第三Nb₂O₅膜层的厚度为12nm~14nm；所述第二Nb₂O₅膜层及所述第四Nb₂O₅膜层的厚度为110nm~114nm；所述第一SiO₂膜层及所述第三SiO₂膜层的厚度为30nm~34nm；所述第二SiO₂膜层的厚度为83nm~86nm；所述第四SiO₂膜层的厚度为54nm~57nm；所述ITO膜层的厚度为12nm~16nm。

在其中一个实施例中，所述第一增透膜层及所述第二增透膜层的磁控溅射镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向所述镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.4Pa~0.6Pa，在室温下进行镀膜。