[发明专利]处理装置在审
申请号: | 201210362334.4 | 申请日: | 2012-09-19 |
公开(公告)号: | CN103017918A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 濑尾健二 | 申请(专利权)人: | 株式会社川田 |
主分类号: | G01K1/14 | 分类号: | G01K1/14;G01K1/00 |
代理公司: | 上海天翔知识产权代理有限公司 31224 | 代理人: | 刘粉宝 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及对被处理物体进行处理的处理装置。
背景技术
向来,对粉粒体等被处理物体的处理,已知有一边测定温度一边进行处理(加热、混合等)的处理装置。
例如,具有以高温、高压使煤炭等的微粉状固体炭原料气化的气化部的压力容器、以及设置贯通压力容器的气化部壁面的温度测量装置的气化炉的提案(参照例如下述专利文献1)。
在这种气化炉中设置的温度测量装置,具备棒状的温度检测器、和插入内筒的温度检测器。温度检测器的前端会从内筒的炉内侧前端上形成的开口向炉内突出。
然后,微粉状固体炭原料在气化时,由于内筒的内部流入的惰性气体,会作为气流从开口喷出,微粉状固体炭原料的熔渣附着于温度检测器的前端的情况得以抑制。
专利文献1:特开2003-57119号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是,所述专利文献1中记载的烘干机,由于气流流入炉内,有时候炉内温度会发生变化。
又,由于气流作用于温度检测器前端,温度检测器检测到的会是气流的温度,难于正确检测到炉内的温度。
因此,本发明的目的在于,提供能正确测定被处理物体的温度的处理装置。
用于解决问题的技术方案
为了实现所述目的,权利请求项1记载的发明为处理装置,其特征在于,具备贮存被处理物体的容器、测量所述容器内贮存的被处理物体温度的传感器、以及使所述传感器相对于所述容器可移动的移动结构。
如果采用这样的结构,则在测量被处理物体温度时,即使被处理物体附着于传感器,也能够使传感器相对于容器移动,从传感器上剥离附着于传感器的被处理物体。
因此,可以避免在被处理物体覆盖于传感器的状态下测量温度,能够正确测量被处理物体的温度。
同时,权利要求2记载的发明,其特征在于,在权利要求1记载的发明中还具备控制所述移动结构动作的控制手段,所述控制手段在所述被处理物体的处理过程中可控制所述移动结构,使所述传感器相对于所述容器移动。
如果采用这样的结构,在所述被处理物体的处理过程中,能够正确测量被处理物体的温度。
再,权利要求3记载的发明,其特征在于,在权利要求1或2记载的发明中,所述容器的壁上开设插通所述传感器的插通孔,所述传感器,可以从所述插通孔进入接近所述容器内所述壁的内表面更内侧的进入位置,和不进入所述壁的内表面更内侧而向所述插通孔退避的退避位置之间移动。
如果采用这样的结构,能够使传感器不进入所述壁的内表面更内侧而从插通孔内退避。
因此,能够确保与传感器退避的距离相对应的,传感器在容器内的移动距离,更有效地将附着于传感器的被处理物体从传感器上剥离。
又,权利要求4记载的发明,其特征在于,在权利要求3所述的发明中,所述容器的壁的所述插通孔的内周面,与所述传感器的外周面保持着在所述传感器向所述退避位置移动时能够限制附着于所述传感器的被处理物体进入所述插通孔的间隔对置。
如果采用这样的结构,能够使传感器向退避位置移动时,一边限制被处理物体侵入,一边只使传感器向插通孔退避。
在使传感器向退避位置移动时,使附着于传感器的被处理物体与壁的内表面(插通孔的周边部)接触,从而将被处理物体从传感器上刮落。
因此,利用插通孔的周边部,能够更可靠地将附着于传感器的被处理物体从传感器上剥离。
如果采用权利要求1记载的发明,可避免传感器在被处理物体覆盖的状态下测量温度,能够正确地测量被处理物体的温度。
如果采用权利要求2记载的发明,在对所述被处理物体的处理过程中,能够正确测量被处理物体的温度。
如果采用权利要求3记载的发明,则能确保与传感器退避距离相对应的,传感器在容器内移动的距离,更有效地将附着于传感器的被处理物体从传感器上剥离。
再则,如果采用权利要求4记载的发明,能够利用插通孔的周边部,可靠地将附着于传感器的被处理物体从传感器上剥离。
附图说明
图1是表示混合装置的侧剖面图。
图2是表示图1所示混合槽的上盖的平面图。
图3是图1所示混合槽的锁定构件的说明图,
(a)表示锁定构件的结合部,在其上端部嵌合于结合构件的结合槽内,紧固构件螺合于锁定构件的螺合部的上端部的状态,
(b)表示锁定构件的结合部,在其下端部嵌合于结合构件的结合槽内,紧固构件螺合于锁定构件的螺合部的上端部的状态,
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