[发明专利]处理装置在审
申请号: | 201210362334.4 | 申请日: | 2012-09-19 |
公开(公告)号: | CN103017918A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 濑尾健二 | 申请(专利权)人: | 株式会社川田 |
主分类号: | G01K1/14 | 分类号: | G01K1/14;G01K1/00 |
代理公司: | 上海天翔知识产权代理有限公司 31224 | 代理人: | 刘粉宝 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种处理装置,其特征在于,具备
贮存被处理物体的容器、
测量所述容器内贮存的被处理物体温度的传感器、以及
使所述传感器相对于所述容器可移动的移动结构。
2.权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
还具备控制所述移动结构动作的控制手段,
所述控制手段在所述被处理物体的处理过程中可控制所述移动结构,使所述传感器相对于所述容器移动。
3.权利要求1或2所述的处理装置,其特征在于,
所述容器的壁上开设插通所述传感器的插通孔,
所述传感器,可以从所述插通孔进入接近所述容器内所述壁的内表面更内侧的进入位置,和不进入所述壁的内表面更内侧而向所述插通孔退避的退避位置之间移动。
4.权利要求3所述的处理装置,其特征在于,
所述容器的壁的所述插通孔的内周面,与所述传感器的外周面保持着在所述传感器向所述退避位置移动时能够限制附着于所述传感器的被处理物体进入所述插通孔的间隔对置。
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