[发明专利]制备层状开放网络抛光垫的方法

权利要求书

1.一种制备层状开放网络抛光垫的方法，所述抛光垫用于对磁性基材、半导体基材和光学基材中的至少一种进行抛光，该方法包括：

a)提供可固化聚合物的第一和第二聚合物板或膜，所述第一和第二聚合物板或膜具有厚度；

b)使得第一和第二聚合物板受能源作用，在第一和第二聚合物板中产生作用图案，该作用图案具有受能源作用的拉长的部分；

c)从受作用的第一和第二聚合物板去除聚合物，以形成通过第一和第二聚合物板的拉长的通道，该拉长的通道的通道图案对应于作用图案，拉长的通道延伸通过第一和第二聚合物的厚度；以及

d)使得第一和第二聚合物板附着以形成抛光垫，第一和第二聚合物板的图案交叉，其中第一聚合物板支撑第二聚合物板，而来自第一和第二聚合物板的拉长的通道连接形成层状开放网络抛光垫，其中第一层形成用于附着到抛光平台的基底层。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述使得第一和第二聚合物板受能源作用的步骤按照所述作用图案固化第一和第二聚合物板，所述去除步骤包括用溶剂去除第一和第二板中与作用图案相邻的聚合物。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述使得第一和第二板受能源作用的步骤包括通过光掩模递送的准直化光，用以形成所述作用图案。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述作用形成作用图案，所述作用图案具有平行通道。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述从受作用的第一和第二聚合物板去除聚合物的步骤在使得第一和第二聚合物板附着前发生，并包括在使得第一和第二聚合物板附着前对所述第一和第二聚合物板进行干燥的步骤。

6.一种制备层状开放网络抛光垫的方法，所述抛光垫用于对磁性基材、半导体基材和光学基材中的至少一种进行抛光，该方法包括：

a)提供可光致固化聚合物的第一和第二板，第一和第二聚合物板或膜具有厚度；

b)使得第一和第二聚合物板受光源作用，在第一和第二聚合物板中产生作用图案，该作用图案具有受能源作用并固化的拉长的部分；

c)用溶剂清洗受作用的第一和第二聚合物板，从受作用的第一和第二聚合物板去除聚合物，以形成通过板的拉长的通道，该拉长的通道的通道图案对应于作用图案，拉长的通道延伸通过第一和第二聚合物的厚度；以及

d)使得第一和第二聚合物板固化，以附着所述第一和第二聚合物板并形成抛光垫，第一和第二聚合物板的图案交叉，其中第一聚合物板支撑第二聚合物板，而来自第一和第二聚合物板的拉长的通道连接形成层状开放网络抛光垫，其中第一层形成用于附着到抛光平台的基底层。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述使得第一和第二板受能源作用的步骤包括通过光掩模递送的准直化紫外光或激光，用以形成作用图案。

8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述作用形成作用图案，所述作用图案具有平行通道，而抛光垫包含具有配准的平行通道的层。

9.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述作用形成作用图案，所述作用图案具有平行通道，而抛光垫包含间隔层，该间隔层具有配准的平行通道，在相邻层之间具有垂直通道。

10.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述从受作用的第一和第二聚合物板去除聚合物的步骤在使得第一和第二聚合物板附着前发生，并包括在使得第一和第二聚合物板附着前对所述第一和第二聚合物板进行干燥的步骤。