[发明专利]防断电保护的硅片清洗机有效

专利信息
申请号: 201210348357.X 申请日: 2012-09-18
公开(公告)号: CN102861745A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 张绍国;何金群;裴立坤;吴仪;王好肖 申请(专利权)人: 北京七星华创电子股份有限公司
主分类号: B08B13/00 分类号: B08B13/00;B08B3/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100015 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 断电 保护 硅片 清洗
【说明书】:

技术领域

发明涉及半导体清洗技术领域,特别涉及一种防断电保护的硅片清洗机。

背景技术

在半导体行业,需要对硅片后道工艺铜互连阶段后,多孔性介质材料进行超精细清洗,Chuck(卡盘)夹持的硅片高速旋转进行清洗时在工艺腔室内完成,清洗包括药液漂洗、超纯水冲洗和N2甩干等工艺。在清洗的过程为了实现对化学药液的回收利用,工艺腔室采用分层设计,Up/down单元带动Chuck至各工艺位置,由伺服电机带动Chuck做高速旋转运动,通过离心力将化学药液甩到专用的回收槽里面。为了防止化学液向下发生滴漏,需要在工艺腔室底背部向上吹N2,从而在硅片底部形成一层自下而上的气体保护膜。一般情况下,如果设备突然发生断电,化学液将会残留在硅片上面,此时如果硅片底部N2保护气发生中断,液体将可能通过硅片边缘滴漏到工艺腔室里面,严重污染清洗环境的清洁度。整个设备如果采用UPS断电保护,成本较高。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是,针对现有技术的不足,提供一种防断电保护的硅片清洗机,对N2管路进行双通道设计,从而保证整个清洗过程N2通道始终处于畅通状态。

(二)技术方案

本发明提供一种防断电保护的硅片清洗机,包括:工艺腔室和位于工艺腔室底部的N2管路,所述N2管路包括:常开N2管路和常闭N2管路,所述常开N2管路与常闭N2管路并联设置,所述常开N2管路上设有常开波纹密封阀,所述常闭N2管路上设有常闭波纹密封阀。

其中,当所述常开波纹密封阀打开时,所述闭波纹密封阀关闭;当所述常开波纹密封阀关闭时,所述闭波纹密封阀打开。

其中,所述常开波纹密封阀和常闭波纹密封阀通过电磁阀岛气动控制。

其中,防断电保护的硅片清洗机还包括:位于常闭波纹密封阀前端管路上的压力针阀。

其中,防断电保护的硅片清洗机还包括:位于常闭波纹密封阀后端管路上的单向阀。

其中,防断电保护的硅片清洗机还包括:位于常开波纹密封阀后端管路上的超声波流量计和过滤器,所述超声波流量计位于所述过滤器的前端管路上。

(三)有益效果

本发明提供的防断电保护的硅片清洗机,采用双通道互锁并联设计,当设备主电源发生断电时候,两个互锁的波纹密封阀通过相反控制动作,使N2通路不会因为断电而发生中断,保证清洗机环境清洁。

附图说明

图1为本发明防断电保护的硅片清洗机管路结构示意图;

图2为本发明防断电保护的硅片清洗机的工艺腔室结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。

如图1所示,本发明提供一种防断电保护的硅片清洗机,包括:工艺腔室8和位于工艺腔室底部的N2管路,所述N2管路包括:常开N2管路9和常闭N2管路10,所述常开N2管路9与常闭N2管路10并联设置,所述常开N2管路9上设有常开波纹密封阀4,所述常闭N2管路10上设有常闭波纹密封阀3。当所述常开波纹密封阀4打开时,所述闭波纹密封阀3关闭,当所述常开波纹密封阀4关闭时,所述闭波纹密封阀3打开。所述常开波纹密封阀4和常闭波纹密封阀3通过电磁阀岛气动控制。

防断电保护的硅片清洗机还包括:位于常闭波纹密封阀3前端管路上的压力针阀2、位于常闭波纹密封阀3后端管路上的单向阀7以及位于常开波纹密封阀4后端管路上的超声波流量计5和过滤器6,所述超声波流量计5位于所述过滤器6的前端管路上。

工作原理:

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