[发明专利]用于测量铸铁熔体中的氧含量的传感器有效
| 申请号： | 201210311047.0 | 申请日： | 2008-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN102944601A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 丹尼·哈贝茨 | 申请（专利权）人： | 贺利氏电子耐特国际股份公司 |
| 主分类号： | G01N27/411 | 分类号： | G01N27/411 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁业平;金小芳 |
| 地址： | 比利时*** | 国省代码： | 比利时;BE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 测量 铸铁 中的 含量 传感器 | ||
【权利要求书】：
1.一种通过电化学测量元件来测量铸铁熔体中的氧含量的传感器，该电化学测量元件包括固体电解质管，所述传感器的特征在于：二氧化锆层被施加于所述固体电解质管的外表面上。
2.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于：所述二氧化锆层中的二氧化锆被氧化钙、氧化钇和/或氧化镁所稳定。
3.根据权利要求2所述的传感器，其特征在于：所述二氧化锆层被至多30重量%的氧化钙、或至多25重量%的氧化镁、或至多52重量%的氧化钇所稳定。
4.根据权利要求3所述的传感器，其特征在于：所述二氧化锆层被约4重量%至6重量%的氧化钙所稳定。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的传感器，其特征在于：所述二氧化锆层是等离子喷镀的。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的传感器，其特征在于：所述二氧化锆层的厚度为约30μm至50μm，尤其为约40μm。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的传感器，其特征在于：所述固体电解质管被设计为二氧化锆管。
8.根据权利要求7所述的传感器，其特征在于：所述二氧化锆管被约2重量%的氧化镁所稳定。
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