[发明专利]一种钆钡铜氧致密膜的制备方法

说明书

技术领域

本发明属于高温超导材料制备技术领域，具体涉及一种钆钡铜氧致密膜的制备方法。

背景技术

涂层导体中超导膜GdBa₂Cu₃O_y（GdBCO）具有优异的超导性能，其制备技术是目前的研究热点之一。人们已经能够采用物理法（脉冲激光沉积技术）制备出高性能的GdBCO超导层长带，但是物理法所需的设备成本较高，因此许多研究单位不断的开发低成本的化学法（化学溶液沉积技术）制备GdBCO超导膜。传统的化学法（三氟乙酸金属有机沉积技术）能够制备高性能的GdBCO超导膜，但是需要很长的时间进行缓慢热解，不利于实现长带制备。在短时间快速热解的条件下，传统方法制备的GdBCO前驱膜表面粗糙，薄膜致密性低，不利于厚膜的制备。西方发达国家一些课题组尝试了采用不同前驱体进行替换，实现快速制备GdBCO超导膜，例如日本ISTEC采用环烷酸铜对三氟乙酸铜进行替换，通过缩短热解时间来制备GdBCO超导膜。但是这些研究同样需要精确控制热解工艺和气氛，同时与采用传统三氟乙酸盐前驱体制备的GdBCO薄膜相比，采用替换前驱体制备GdBCO薄膜的超导性能一般会降低。

为了消除传统钆钡铜三氟乙酸盐前驱液对制备工艺和气氛的敏感性，同时提高钆钡铜氧膜的致密性和超导性能，因此通过采用螯合剂稳定传统前驱液，能快速制备出钆钡铜氧致密膜。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术的不足，提供一种工艺简单、设计合理、易于操作的钆钡铜氧致密膜的制备方法。该方法不仅能快速制备出钆钡铜氧致密膜，而且可以消除传统钆钡铜三氟乙酸盐前驱液对制备工艺和气氛的敏感性，同时制备出的钆钡铜氧膜具有较高的致密性和超导性。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种钆钡铜氧致密膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、将三氟乙酸钆、三氟乙酸钡和三氟乙酸铜溶解于甲醇中，得到三氟乙酸盐前驱液一；所述三氟乙酸盐前驱液一中钆、钡、铜三种金属离子的摩尔比为：Gd³⁺：Ba²⁺：Cu²⁺=1：2：3，所述三氟乙酸盐前驱液一中钆、钡和铜三种金属离子的总摩尔浓度为1.5mol/L～2.5mol/L；

步骤二、将螯合剂与步骤一中所述三氟乙酸前驱液一中加入搅拌器中，以400r/min～600r/min的转速在60℃～80℃的温度下搅拌1h～3h后形成络合物，然后将所述络合物在甲醇和丙酸混合溶剂中定容得到三氟乙酸盐前驱液二；所述螯合剂为苯甲酸，所述螯合剂的加入量为铜离子的物质的量的1～3倍；所述甲醇和丙酸混合溶液中甲醇和丙酸的体积比为4～9：1；所述三氟乙酸盐前驱液二中钆、钡、铜三中金属离子的摩尔比为：Gd³⁺：Ba²⁺：Cu²⁺=1：2：3，所述三氟乙酸盐前驱液二中钆、钡和铜三种金属离子的总摩尔浓度为1mol/L～2mol/L；

步骤三、采用旋涂法将步骤二中所述三氟乙酸盐前驱液二均匀涂覆在铝酸镧单晶基片上，然后将涂覆有涂层的铝酸镧单晶基片置于热解炉中进行热解，得到表面光滑的前驱膜；

步骤四、将步骤三中所述前驱膜置于管式炉中进行晶化处理，晶化处理后将管式炉中的温度降到渗氧处理的温度进行渗氧处理，随炉冷却得到钆钡铜氧致密膜。

上述的一种钆钡铜氧致密膜的制备方法，其特征在于，步骤三中所述热解的制度为：向热解炉中通入露点为10℃～30℃的水蒸汽，同时通入空气形成潮湿的空气保护气氛，以5℃/min～10℃/min的升温速率将炉内温度升至400℃～450℃，保温10min，之后随炉冷却。

上述的一种钆钡铜氧致密膜的制备方法，其特征在于，步骤三中所述涂层的厚度为5μm～10μm。

上述的一种钆钡铜氧致密膜的制备方法，其特征在于，步骤四中所述晶化处理的温度为800℃～830℃，晶化处理的时间为1h～3h；所述晶化处理的保护气氛为氮氧混合气体。

上述的一种钆钡铜氧致密膜的制备方法，其特征在于，所述氮氧混合气体中氧气含量为100ppm，余量为氮气。

上述的一种钆钡铜氧致密膜的制备方法，其特征在于，步骤四中所述渗氧处理的温度为400℃～450℃，所述渗氧处理的时间为1h～2h；所述渗氧处理的保护气氛为氧气，所述氧气的质量纯度为98%。

本发明与现有技术相比具有以下优点：