[发明专利]通过物件取向控制烧成形状

权利要求书

1.一种制备陶瓷体的方法，所述方法包括：

挤出生坯体，将所述生坯体挤出成预定目标轮廓形状，其中至少一些生坯体的测定形状与预定目标轮廓形状至少有部分偏差；

在窑中对所述生坯体进行烧成，制成陶瓷体，其中，生坯体在烧成的过程中相对于窑内温度梯度取向，使所述陶瓷体的测定形状与预定目标轮廓形状的平均偏差小于生坯体的测定形状与所述预定目标轮廓形状的平均偏差。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述生坯体和陶瓷体与预定目标轮廓形状的偏差通过采用激光测径坐标测量法（LGCM）的技术测定。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述技术利用至少一种选自下组的参数：模板值、管规值和圆度。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述技术采用主元分析法（PCA）。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述窑是隧道窑。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述生坯体沿隧道窑内的一个方向移动，所述温度梯度平行于所述生坯体移动的方向。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述生坯体包含挤出线，其中所述挤出线面向生坯体移动的方向。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述生坯体沿隧道窑内的一个方向移动，所述温度梯度与所述生坯体移动的方向正交或斜交。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述窑是间歇窑。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述生坯体包含挤出线，其中所述挤出线与温度梯度对齐。

11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述生坯体包含挤出线，其中所述挤出线与温度梯度正交或斜交。

12.一种通过如权利要求1所述的方法制备的陶瓷体。

13.如权利要求12所述的陶瓷体，其特征在于，所述窑是隧道窑。

14.如权利要求13所述的陶瓷体，其特征在于，所述生坯体沿隧道窑内的一个方向移动，所述温度梯度平行于所述生坯体移动的方向。

15.如权利要求14所述的陶瓷体，其特征在于，所述生坯体包含挤出线，其中所述挤出线面向生坯体移动的方向。

16.如权利要求13所述的陶瓷体，其特征在于，所述生坯体沿隧道窑内的一个方向移动，所述温度梯度与所述生坯体移动的方向正交或斜交。

17.如权利要求12所述的陶瓷体，其特征在于，所述窑是间歇窑。

18.如权利要求17所述的陶瓷体，其特征在于，所述生坯体包含挤出线，其中所述挤出线与温度梯度对齐。

19.如权利要求18所述的陶瓷体，其特征在于，所述生坯体包含挤出线，其中所述挤出线与温度梯度正交或斜交。

20.一种制备陶瓷体的方法，所述方法包括：

挤出生坯体，将所述生坯体挤出成预定目标轮廓形状，其中至少一些生坯体的测定形状与预定目标轮廓形状至少有部分偏差；

在窑中对所述生坯体进行烧成，制成陶瓷体，其中，至少大部分生坯体在烧成过程中相对于窑内温度梯度的取向相同。

21.如权利要求20所述的方法，其特征在于，所有生坯体相对于窑内温度梯度的取向相同。

22.如权利要求21所述的方法，其特征在于，所述窑是隧道窑。

23.如权利要求22所述的方法，其特征在于，所述生坯体沿隧道窑内的一个方向移动，所述温度梯度平行于所述生坯体移动的方向。

24.如权利要求22所述的方法，其特征在于，所述生坯体包含挤出线，其中所述挤出线面向生坯体移动的方向。

25.如权利要求22所述的方法，其特征在于，所述生坯体沿隧道窑内的一个方向移动，所述温度梯度与所述生坯体移动的方向正交或斜交。

26.如权利要求21所述的方法，其特征在于，所述窑是间歇窑。

27.如权利要求26所述的方法，其特征在于，所述生坯体包含挤出线，其中所述挤出线与温度梯度对齐。