[发明专利]配向膜和制造配向膜的方法、延迟膜和制造延迟膜的方法无效
申请号: | 201210306205.3 | 申请日: | 2012-08-17 |
公开(公告)号: | CN102955293A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 小田桐广和;星光成;铃木真哉;野崎治朗;片仓等 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02B5/30 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 宋鹤 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 方法 延迟 | ||
1.一种制造配向膜的方法,该方法包括:
在低于基体膜的玻璃转化温度的温度下,把母版直接压到所述基体膜的表面,所述母版的表面上具有纳米量级的精细线状凹凸结构,从而把与所述母版上的凹凸结构相对应的图案传递到所述基体膜的表面。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述基体膜是单层或多层树脂膜。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述基体膜包括的材料所具有的塑性形变量满足以下表达式:所述塑性形变量是当具有136度的面角的金刚石点阵被以足以使所述金刚石点阵能够到达所述基体膜的表面层中的塑性形变区的力压到所述基体膜的表面中、然后解除该压力时,留在该膜中的塑性形变量:
Dp≥0.25×Dmax,
其中,Dp是当上述压力被解除时留在所述基体膜中的塑性形变量,Dmax是当以1mN的力把所述金刚石点阵压到所述基体膜的表面中时的最大压制形变量。
4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述母版上的凹凸结构包括多个第一区域和多个第二区域,所述多个第一区域包括沿第一方向延伸的第一凹凸结构,所述多个第二区域包括沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的第二凹凸结构,并且
所述第一区域和所述第二区域各自具有带状形状并被交替地布置。
5.一种制造延迟膜的方法,该方法包括:
在低于基体膜的玻璃转化温度的温度下,把母版直接压到所述基体膜的表面,所述母版的表面上具有纳米量级的精细线状凹凸结构,从而把与所述母版上的凹凸结构相对应的图案传递到所述基体膜的表面;以及
把包含液晶单体的溶液直接撒布在所述基体膜的、具有该图案的表面上以给所述液晶单体进行配向,然后使经过配向的液晶单体聚合。
6.一种配向膜,包括:
基体膜表面上的、纳米量级的精细线状凹凸结构,
其中,所述凹凸结构是通过下述方式形成的:在低于所述基体膜的玻璃转化温度的温度下,把母版直接压到所述基体膜的所述表面,所述母版的表面上具有与所述凹凸结构相对应的图案。
7.一种延迟膜,包括:
基体膜,该基体膜在其表面上具有纳米量级的精细线状凹凸结构;以及
延迟层,该层与所述基体膜的表面直接接触,并具有与所述基体膜上的凹凸结构相对应的慢轴,
其中,所述凹凸结构是通过下述方式形成的:在低于所述基体膜的玻璃转化温度的温度下,把母版直接压到所述基体膜的所述表面,所述母版的表面上具有与所述凹凸结构相对应的图案。
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