[发明专利]表面含半裸露纳米线的抗菌涂料及其制备方法无效
| 申请号： | 201210305934.7 | 申请日： | 2012-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN102850920A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 蒋玉洁;冮鑑;王也 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C09D171/02 | 分类号： | C09D171/02;C09D129/04;C09D123/08;C09D5/14 |
| 代理公司： | 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 | 代理人： | 余长江 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面 裸露 纳米 抗菌 涂料 及其 制备 方法 | ||
1.一种抗菌涂料，其特征在于，包含高分子聚合物、含银三钼酸盐纳米线和易挥发溶剂，所述高分子聚合物溶解于所述易挥发溶剂中，所述含银三钼酸盐纳米线均匀分布于所述易挥发溶剂中。
2.如权利要求1所述的抗菌涂料，其特征在于：所述易挥发溶剂和所述高分子聚合物的质量配比为20:1~1:1，所述易挥发溶剂和所述含银三钼酸盐纳米线的质量配比为10000:1~100:1。
3.如权利要求1所述的抗菌涂料，其特征在于，所述易挥发溶剂为水或氯仿。
4.如权利要求1所述的抗菌涂料，其特征在于，所述含银三钼酸盐为(NH4)2-xAgxMo3O10，其中x=0.58。
5.如权利要求1所述的抗菌涂料，其特征在于，所述高分子聚合物是下列中的一种：聚氧化乙烯、聚乙烯醇、乙烯-醋酸乙烯共聚物。
6.一种抗菌涂料的制备方法，其步骤包括：
1）将高分子聚合物溶解于易挥发溶剂中，并将含银三钼酸盐纳米线放入所述易挥发溶剂中；
2）通过超声使所述高分子聚合物和所述含银三钼酸盐纳米线在所述易挥发溶剂中均匀分散。
7.如权利要求6所述的抗菌涂料的制备方法，其特征在于，其特征在于：所述易挥发溶剂和所述高分子聚合物的质量配比为20:1~1:1，所述易挥发溶剂和所述含银三钼酸盐纳米线的质量配比为10000:1~100:1。
8.如权利要求6所述的抗菌涂料的制备方法，其特征在于，所述含银三钼酸盐为(NH4)2-xAgxMo3O10，其中x=0.58。
9.如权利要求6或8所述的抗菌涂料的制备方法，其特征在于，通过四水合三钼酸铵和银盐在水中反应制备所述含银三钼酸盐纳米线。
10.如权利要求6所述的抗菌涂料的制备方法，其特征在于：所述溶剂为水或氯仿；所述高分子聚合物是下列中的一种：聚氧化乙烯、聚乙烯醇、乙烯-醋酸乙烯共聚物。
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