[发明专利]一种辐射固化体系用表面控制助剂及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201210299918.1 申请日: 2012-08-22
公开(公告)号: CN102863625A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 王志军 申请(专利权)人: 王志军
主分类号: C08G77/46 分类号: C08G77/46;C09D7/12;C09D11/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 胡红芳
地址: 200042 上海市长宁*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 辐射 固化 体系 表面 控制 助剂 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种辐射固化体系用表面控制助剂,其特征在于,所述表面控制助剂具有如下结构式:

其中的A为  ;

m为0~400的整数,n为1~500的整数; 

x为0~800的整数,p为0~600的整数,q为1~800的整数; 

R4、R5是H或者CH3

R6是H或含1~18个碳的直链或支链烷基或含2~5个碳的酰基。

2.根据权利要求1所述的表面控制助剂,其特征在于,R6是甲基、乙基、正丁基、异丁基或乙酰基。

3.权利要求1或2所述的辐射固化体系用表面控制助剂的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

首先,将组分A与组分B加入反应器中,并投入占整个配方0.02~0.2wt%的2%氯铂酸醋丁溶液作为催化剂,在100~120℃下反应4~8小时,进行氢硅化反应加成,其中组分B与组分A中1~90%的硅氢基团进行反应;然后,将反应体系降温到60~80℃,加入组分C和组分D进一步反应2~6小时至硅氢基团的IR特征峰消失,其中组分C的用量占整个配方的0.01~1wt%,组分D与组分A中1~90%的硅氢基团进行反应,最后在70~100℃抽真空抽除挥发份,得到所述辐射固化体系用表面控制助剂;所述组分A是数均分子量为200~100000的含氢聚硅氧烷,结构式如下:

其中,R1是苯基或者含1~4个碳原子的低级烷基并且各个R1可以相同或不同,R2 和R3是苯基或者含1~4个碳原子的低级烷基或者H并且至少有一个R2是H;p为0~600的整数,q为1~800的整数;

所述组分B是具有如下结构式的烯丙基聚醚:

其中R4、R5是H或者CH3,R6是H或者含1~18个碳的直链或支链烷基或者含2~5个碳的酰基,m和n是整数并且使得组分B的数均分子量为200~20000;

所述组分C是醌类、酚类或芳胺类阻聚剂;加入量为整个配方的0.01~1wt%;

所述组分D是丙烯酸烯丙酯或甲基丙烯酸烯丙酯。

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述组分A的数均分子量为500~20000,所述R6是甲基、乙基、丁基、异丁基或乙酰基,所述组分B的数均分子量为300~10000。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述组分A的数均分子量为1000~3000,所述组分B的数均分子量为400~3000。

6.根据权利要求3~5任一所述的制备方法,其特征在于,所述组分B的HLB值是1~17。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述组分C是对甲氧基苯酚、对苯二酚、酚噻嗪、对叔丁基邻苯二酚、对羟基苯甲醚或2,6-二叔丁基对甲苯酚。

8.权利要求1或2所述的辐射固化体系用表面控制助剂的应用,其特征在于,所述表面控制助剂作为流平控制助剂用于UV/EB涂料体系或者油墨体系。

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