[发明专利]一种光学邻近修正的焦平面选择方法

权利要求书

1.一种光学邻近修正的焦平面选择方法，该方法应用于光学邻近修正，在具有焦平面不敏感图形的光罩图形中加入焦平面敏感的检测图形；分别建立所述焦平面不敏感图形对应的第一泊桑曲线和所述焦平面敏感的检测图形对应的第二泊桑曲线，所述第二泊桑曲线具有波峰或波谷；

根据所述第一泊桑曲线选取目标特征尺寸对应的第一焦平面相关参数，记录所述第二泊桑曲线的波峰或波谷对应的第二焦平面相关参数与所述第一焦平面相关参数之间的差值之后，该方法还包括：

建立所述焦平面敏感的检测图形对应的第三泊桑曲线，所述第三泊桑曲线具有波峰或波谷；

根据所述第三泊桑曲线的波峰或波谷对应的第三焦平面相关参数和所述相对差值计算焦平面不敏感图形的焦平面相关参数。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述焦平面敏感的检测图形是顶角小于等于30度的等腰三角形。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一泊桑曲线选取目标特征尺寸对应的第一焦平面相关参数的是，当所得光刻图案的特征尺寸与目标特征尺寸的差异范围在±10%之内时，选取对应的第一焦平面相关参数的取值。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二泊桑曲线的波峰或波谷对应的第二焦平面相关参数与所述第一焦平面相关参数之间差值的计算方法是，用所述第二焦平面相关参数减去所述第一焦平面相关参数；

所述根据所述第三泊桑曲线的波峰或波谷对应的第三焦平面相关参数和所述相对差值计算焦平面不敏感图形的焦平面相关参数的方法是，将所述第三焦平面相关参数与所述差值相加所得的和作为焦平面不敏感图形的焦平面相关参数。