[发明专利]离子注入设备

权利要求书

1.一种离子注入设备，所述离子注入设备从离子源发射离子束，并且在所述离子注入设备中对布置在加工腔室内的衬底执行离子注入，其中，所述离子束具有正电荷以及有着长边方向和短边方向的矩形截面或长椭圆截面，所述离子注入设备包括：

射束电流测量装置，所述射束电流测量装置测量所述离子束沿所述长边方向的射束电流密度分布；

偏转电极，所述偏转电极基于由所述射束电流测量装置测量的结果，使所述离子束的至少一部分沿所述长边方向朝向所述短边方向偏转；和

遮蔽构件，所述遮蔽构件部分地遮蔽由所述偏转电极偏转的所述离子束，

其中，所述偏转电极包括平板电极和包括多个电极的电极组，所述电极组布置成面对所述平板电极，以便将所述离子束置于所述平板电极与所述电极组之间，

所述平板电极电接地，

所述多个电极彼此电独立，且

所述多个电极的每一个均连接至与其他电源独立的电源以执行电位设置。

2.根据权利要求1所述的离子注入设备，其中

所述离子束沿所述长边方向的尺寸比所述衬底的尺寸长，且

当对所述衬底执行离子注入时，沿着所述离子束的所述短边方向传送所述衬底。

3.根据权利要求1或2所述的离子注入设备，其中

当所述射束电流测量装置所测量的结果未满足所期望的值时，对所述多个电极进行设置，使得所有电极都具有负电位。

4.根据权利要求1或2所述的离子注入设备，其中

当所述射束电流测量装置所测量的结果不是所期望的值时，对构成所述电极组的所述多个电极进行设置，使得一些电极处于负电位、而其余的电极处于地电位。

5.根据权利要求1或2所述的离子注入设备，其中

将所述多个电源连接至偏压电源，以基于地电位来共同地设置所述多个电源的电位。

6.根据权利要求5所述的离子注入设备，其中

所述偏压电源将所述多个电源的电位共同地设置成负电位。