[发明专利]触摸屏的制造方法有效
申请号: | 201210295389.8 | 申请日: | 2012-08-17 |
公开(公告)号: | CN103294249A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 赵丽军;马骏 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201201 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 触摸屏 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及触摸技术领域,尤其涉及一种触摸屏的制造方法。
背景技术
触摸屏(Touch Panel)又称为触控屏、触控面板,它作为一种人机交互的输入装置被广泛应用在各种电子产品上,比如手机、PDA、多媒体、公共信息查询系统等。用户可以通过手指或专用笔触摸屏幕而产生电信号的变化,对位于触摸屏后面显示器件中所显示的文字、符号、菜单等进行识别与选择操作,从而实现对设备的输入操作。
由于强化玻璃表面平滑而有光泽、透光率高、耐蠕变、抗疲劳性、耐摩擦和尺寸稳定性好,磨耗小而硬度高,具有热塑性塑料中最大的韧性;电绝缘性能好,受温度影响小,常用于制作手机等触摸屏的表面薄膜。
现有技术制造触摸屏一般是通过在强化玻璃上成膜,并用掩膜板(Mask)曝光、刻蚀等工艺来实现的,但是使用掩膜板的成本相对较高,且对于强化玻璃,需要把小片组装在载体中,通过聚焦或抓取载体整面上的对准标识等来使得掩膜板与载体对准,进行曝光,由于基板与载体相比尺寸较小,曝光误差较大,实际上很难实现量产。
发明内容
本发明的目的在于提供一种触摸屏的制造方法,能够避免掩膜板曝光误差,降低小尺寸触摸屏量产难度。
为解决上述问题,本发明提供一种触摸屏的制造方法,包括:
提供多个基板;
提供一载体,所述载体上设有多个凹槽,所述凹槽的尺寸与所述基板尺寸一致;
将所述多个基板组装到所述凹槽中;
采用激光刻蚀方法在所述多个基板上同步制备触摸结构层;
将所述载体与所述多个基板分离。
进一步的,在所述多个基板上同步制备触摸结构层的步骤包括:
采用激光刻蚀方法在所述多个基板和载体的表面上形成图案化的第一透明电极层;
采用激光刻蚀方法在所述图案化的第一透明电极层上形成图案化的绝缘层;
采用激光刻蚀方法在所述绝缘层和载体的表面上形成图案化的第二透明电极层。
进一步的,所述图案化的第一透明电极层的材质为氧化铟锡、氧化铟锌、碳纳米管或铝钛共掺杂氧化锌。
进一步的,所述图案化的第二透明电极层的材质为氧化铟锡、氧化铟锌、碳纳米管或铝钛共掺杂氧化锌。
进一步的,所述图案化的第一透明电极层位于所述基板的上表面一侧。
进一步的,在所述多个基板和载体的表面上形成图案化的第一透明电极层的步骤包括:
在所述多个基板和载体的表面上沉积第一透明电极层;
采用激光刻蚀方法刻蚀所述第一透明电极层形成图案化的第一透明电极层。
进一步的,所述图案化的绝缘层位于所述图案化的第一透明电极层上方并暴露出所述图案化的第一透明电极层的部分顶部。
进一步的,所述图案化的第二电极层覆盖所述图案化的绝缘层且暴露出每块基板的部分表面。
进一步的,在所述绝缘层和载体的表面上形成图案化的第二透明电极层的步骤包括:
在所述绝缘层和载体的表面上沉积第二透明电极层;
采用激光刻蚀方法刻蚀所述第二透明电极层形成图案化的第二透明电极层。
进一步的,所述激光刻蚀方法中,激光器的参数包括:工作区域为1300mm*1300mm,工作速度为0-48000mm/min,工作的交流电压为380V±10%,工作频率为50HZ。
进一步的,所述激光刻蚀方法中,所述激光器的刻蚀精度为3~5μm。
进一步的,将所述多个基板组装到所述凹槽中之前,在所述凹槽中或者基板的组装面上涂敷粘合剂。
进一步的,将所述多个基板组装到所述凹槽中之后,在所述多个基板上同步制备触摸结构层之前,对组装后的载体和基板进行清洗。
进一步的,将所述载体与所述多个基板分离之前,采用激光刻蚀方法、干法刻蚀或者湿法刻蚀方法刻蚀所述载体与基板之间、相邻两基板之间的触摸结构层,以将所述载体与基板之间、相邻两基板之间相互断开。
进一步的,采用激光刻蚀方法在所述多个基板上同步制备触摸结构层的同时,激光刻蚀所述载体与基板之间、相邻两基板之间的触摸结构层,以将所述载体与基板之间、相邻两基板之间相互断开。
进一步的,加热将所述粘合剂熔化以将所述载体与所述多个基板分离。
进一步的,将所述载体与所述多个基板机械分离。
进一步的,所述基板的材料为强化玻璃或石英。
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