[发明专利]一种制备均匀金纳米颗粒薄膜的方法

权利要求书

1.一种制备均匀金纳米颗粒薄膜的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

步骤1：制备含有金纳米颗粒（1）的纳米溶液（2）；

步骤2：配置含有聚乙烯吡咯烷酮和抗坏血酸的溶液（3）；

步骤3：插入基片材料（4）进行自组装沉积，沉积完成后，在基片材料上将自主装一层金纳米颗粒薄膜（5）。

2.根据权利要求1所述的制备均匀金纳米颗粒薄膜的方法，其特征在于，步骤1中：

采用种子生长法、抗坏血酸还原法、柠檬酸钠法、硼氢化钠法、电化学法、光化学还原法、声化学合成法中的任一种方法制备含有金纳米颗粒（1）的纳米溶液（2）；

纳米溶液（2）中的纳米颗粒根据各类方法中反应物材料的浓度及制备条件来制备出各种不同形状和尺寸的金纳米颗粒。

3.根据权利要求1所述的制备均匀金纳米颗粒薄膜的方法，其特征在于，步骤2中，配置含有聚乙烯吡咯烷酮和抗坏血酸的溶液（3）的方法为:

在含有金纳米颗粒（1）的纳米溶液（2）中添加聚乙烯吡咯烷酮和抗坏血酸这两种化学物质，添加的聚乙烯基吡咯烷酮浓度为0.01摩尔每升到0.5摩尔每升，添加的抗坏血酸的浓度为0.005摩尔每升到0.6摩尔每升；通过添加聚乙烯基吡咯烷酮和抗坏血酸，纳米颗粒将实现表面能的改性，促成纳米颗粒表面能与沉积基片的匹配。

4.根据权利要求1或3所述的制备均匀金纳米颗粒薄膜的方法，其特征在于，步骤3中，插入基片材料进行自组装沉积时，

用洁净的基片材料（4）垂直插入到添加聚乙烯基吡咯烷酮和抗坏血酸后的溶液（3）中，此时金纳米颗粒将发生自组装行为，自发地沉积在基片材料（4）的表面，实现均匀金纳米颗粒薄膜的制备。

5.根据权利要求1所述的制备均匀金纳米颗粒薄膜的方法，其特征在于，金纳米颗粒（1）为纳米球或纳米棒或纳米碟或纳米方块或纳米花状的纳米结构，尺寸大小为1纳米到200纳米。

6.根据权利要求4所述的制备均匀金纳米颗粒薄膜的方法，其特征在于，基片材料（4）为抛光硅片、金属、玻璃、石英片、透明导电玻璃复合材料中的任一种。