[发明专利]光掩模及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及在掩模基板上形成有掩模图案的光掩模，尤其涉及要防止与目标不同的图案被曝光的情形的光掩模及曝光装置。

背景技术

以往的这种光掩模，在同一掩模基板上排列设置有掩模图案不同的多种图案区域，在基板上曝光不同种类的图案时，通过快门的开闭动作而从多种图案区域中选择被曝光的图案的图案区域来进行曝光(例如参照日本特开2008-310217号公报)。

但是，这种以往的光掩模通过受曝光装置中具备的控制单元的程序所控制的快门的开闭动作，从上述多种图案区域中选择被曝光的图案的图案区域，并未具备确认图案区域是否被正确选择的单元。因此，在因人为错误而错误地输入并设定了上述多种图案区域的选择信息、或者设置了与要曝光的光掩模不同的光掩模的情况下，可能无法检测出上述错误，导致会曝光与正规图案不同的图案。

发明内容

因此，本发明是针对上述问题点而提出的，其目的在于提供一种要防止与目标不同的图案被曝光的情形的光掩模及曝光装置。

为了达成上述目的，第1发明涉及一种光掩模，具有在掩模基板上将多个掩模图案至少排成一列而形成的图案区域，所述光掩模具备：在与所述多个掩模图案的排列方向交叉的方向上，在与所述图案区域的中心轴偏离一定距离的位置处，按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的开口部；和在所述开口部内为了将所述掩模图案与其他掩模基板上形成的不同种类的掩模图案辨别开而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记，将所述辨别用标记设置在所述开口部的纵长中心轴上的与所述不同种类的掩模图案的辨别用标记不同的位置。

通过采样这种构成，根据在与形成了掩模图案的图案区域的中心轴偏离一定距离的位置处设置的细长状的开口部内、与其纵长中心轴交叉的方式设置的至少一条细线状的辨别用标记的位置，与形成于其他掩模基板的不同种类的掩模图案辨别开。

另外，第2发明涉及一种光掩模，在同一掩模基板上将掩模图案不同的多种图案区域按照其中心轴相互平行的方式排列设置，所述光掩模具备：在与各所述图案区域的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部；和在各所述开口部内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记，将各所述开口部内的辨别用标记分别设置在各所述开口部的纵长中心轴上的不同位置。

通过采样这种构成，根据与在同一掩模基板上排列设置且掩模图案不同的多种图案区域的中心轴偏离一定距离的位置处分别以纵长中心轴平行于所述中心轴的方式设置的细长状的多个开口部内的、与上述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记的位置，辨别各图案区域的掩模图案。

优选各所述开口部内的辨别用标记，按照沿着各所述图案区域的中心轴排列的各所述掩模图案的排列间距的整数倍的间距而分别形成有多条。

进而优选各所述开口部内的辨别用标记在所述纵长中心轴方向上的宽度各不相同。

另外，第3发明涉及一种曝光装置，具备：掩模台，其与被曝光体对置设置，对光掩模进行保持，能够沿着多种图案区域的排列方向移动，所述光掩模在同一掩模基板上将掩模图案不同的所述多种图案区域按照其中心轴相互平行的方式排列设置，在与各所述图案区域的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处分别形成纵长中心轴平行于所述中心轴的细长状的多个开口部，在该各开口部内分别将用于辨别所述掩模图案的与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记设置在所述纵长中心轴上的不同位置；曝光光学系统，其向所述光掩模的多种图案区域之中被选择出的一个图案区域照射光源光，将该被选择出的图案区域的掩模图案转印到所述被曝光体上；检测单元，其使细长状的受光部的纵长中心轴与所述被选择出的一个图案区域所对应的所述开口部的纵长中心轴一致地进行配置，用于检测所述辨别用标记的位置；和控制单元，其控制所述掩模台的移动，使得从所述多种图案区域中选择一个图案区域，所述控制单元比较从预先设定并保存的曝光信息中读取的掩模图案信息、和对应于各所述辨别用标记的位置而预先保存的掩模图案信息之中由所述检测单元检测出的所述辨别用标记的位置所对应的掩模图案信息，来判定所述被选择出的图案区域的正确与否。