[发明专利]一种超临界二氧化碳染色设备的清洗方法

权利要求书

1.一种超临界二氧化碳染色设备的清洗方法，是以超临界二氧化碳流体、无水乙醇和丙酮的混合物作为清洗剂，在70~110℃，15~20MPa的条件下，清洗至少2次，每次清洗时间至少为10min。

2.根据权利要求1所述的超临界二氧化碳染色设备的清洗方法，其特征在于所述的清洗剂中的超临界二氧化碳流体、无水乙醇和丙酮之间按体积比为100：2~6：1~3混合。

3.根据权利要求1所述的超临界二氧化碳染色设备的清洗方法，其特征在于所述的清洗时间为10~30min。

4.根据权利要求1~3中任一所述的超临界二氧化碳染色设备的清洗方法，其特征在于所述的清洗次数为2次，清洗步骤为：

第一次内清洗：超临界二氧化碳流体、无水乙醇和丙酮按体积比为100：2~6：1~3的混合物作为清洗剂，在70~80℃，15~18MPa的条件下，清洗10~20min；清洗路径为高压主泵(P01)→R3→换热器(E02)→V1→染料釜(V03)→V2→V27→V26→染色釜Ⅰ(V041)→V5→V6→染色釜Ⅱ(V042)→V23→V22→V20→染色釜Ⅲ(V043)→V11→V12→染色釜Ⅳ(V044)→V17→V16→V15→V29→循环泵(P02)；

第二次外清洗：超临界二氧化碳流体、与无水乙醇和丙酮按体积比为100：4~6：2~3的混合物作为清洗剂，在80~90℃，18~20MPa的条件下，清洗20~30min；清洗路径为高压主泵(P01)→R3→换热器(E02)→V1→染料釜(V03)→V2→V3→染色釜Ⅰ(V041)→V26→V25→V24→V23→染色釜Ⅱ(V042)→V8→V9→染色釜Ⅲ(V043)→V20→V19→V18→V17→染色釜Ⅳ(V044)→V14→V15→V29→循环泵(P02)。

5.根据权利要求4所述的超临界二氧化碳染色设备的清洗方法，其特征在于清洗后还包括对设备进行冲洗的步骤；所述的冲洗是以超临界二氧化碳流体为冲洗剂，在100~110℃，18~20MPa的条件下，冲洗10~20min。