[发明专利]磁记录介质用玻璃素板以及磁记录介质用玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及磁记录介质用玻璃素板和使用该素板的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

背景技术

近年，在磁记录介质、尤其是磁盘存储器中，正在推进快速的高记录密度化。磁盘存储器是通过使磁头略微露出到高速旋转的记录介质（磁盘）上进行扫描而实现随机存取，为了兼具高记录密度和高速存取，希望降低磁盘和磁头的间隔（磁头露出量）以及提高磁盘的转数。目前主流的磁盘基材是在铝（Al）上镀了镍磷（Ni-P）的基板，但是，发展趋势是使用玻璃基板，玻璃基板比铝合金基板硬，磁头对基板表面的耐冲击性优异，平坦性和平滑性优异。

降低磁头的浮上量时，如果磁头的主平面不是平滑的面，存在磁头接触主平面发生障碍的担忧。此外，如果磁盘的主平面的表面粗糙度大、与磁头的距离变动时，则存在读取和写入的可靠性下降的问题。进而，如果主平面上有伤痕等缺陷，则有读取和写入量下降的担忧，因此，需要的是在主平面上没有伤痕等缺陷的磁记录介质用玻璃基板。

通常，磁记录介质用玻璃基板经过以下工序制造：按照以下工序将玻璃素板切断加工成易于加工的形状的工序；加工成中央部具有圆孔的圆盘形状的圆盘形状加工工序；磨削加工圆盘形状基板的内周端部和外周端部的倒角工序；研磨倒角后的内周端部和/或外周端部的端面研磨工序；研磨端面研磨后的玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；以及清洗玻璃基板、提高清洁度的清洗工序等。根据需要，可以在所述各工序间设置清洗玻璃基板的工序、蚀刻玻璃基板的工序。

这样的磁记录介质用玻璃基板的制造中，在主平面研磨工序前的加工工序中，进行使多片玻璃基板的主平面之间重合或者直接保持主平面，那样的重合和保持时，容易发生玻璃碎片或异物的夹杂。因此，存在玻璃基板的主平面上容易产生伤痕等缺陷的问题。

通常，玻璃基板的主平面上产生的伤痕等缺陷可以通过在主平面研磨工序中研磨主平面来除去，但是，由于因夹杂异物等产生的伤痕的深度不是一定的，因此，深的伤痕在主平面研磨工序中不能被完全除去，存在伤痕等缺陷残留在产品中，降低产品的产率的担忧。此外，为了除去因夹杂异物产生的深伤痕等缺陷，有必要增大主平面研磨工序中的研磨量，且增大研磨量时，为了确保作为产品的规定的板厚，有必要增加玻璃素板的板厚。因此，存在材料的损失大，且研磨工序等作业消耗时间的问题。

一直以来，为了防止板玻璃的制造、搬送、运送、加工工序中产生伤痕等缺陷，有人提出用亚硫酸气体等处理玻璃板，在表面形成由硫酸盐等无机盐类构成的被膜的方法（例如，参考专利文献1）。但是，即使想将专利文献1中记载的方法用于防止在磁记录介质用玻璃基板制造工序中的所述伤痕等缺陷，由于被膜的厚膜非常薄，不能充分防止由于玻璃基板主平面的异物夹杂等引起的伤痕等缺陷。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开WO2002/051767号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明是为了解决所述问题而完成的发明，目的是提供能够以良好的产率获得防止主平面研磨工序前产生的伤痕等缺陷、尤其是防止由于异物夹杂等产生的伤痕等缺陷、主平面的平滑性优异的磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质用玻璃素板、以及磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明的磁记录介质用玻璃素板，是用于形成在中央部具有圆孔的圆盘形状的磁记录介质用玻璃基板的、具有主平面和侧面的玻璃素板，其特征在于，在至少一个主平面上，具有含有树脂的保护膜。

本发明的磁记录介质用玻璃素板中，优选所述保护膜具有在中央部有圆形孔部的圆环形的平面形状。此外，所述保护膜优选具有0.01mm～0.5mm的膜厚。

本发明的磁记录介质用玻璃基板的制造方法具有：准备具有主平面和侧面的磁记录介质用玻璃素板的磁记录介质用玻璃素板准备工序；将所述磁记录介质用玻璃素板加工成中央部具有圆孔的圆盘形状的玻璃基板的赋形工序；研磨所述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；和所述玻璃基板的清洗工序，其特征在于，所述磁记录介质用玻璃素板准备工序具有：在玻璃素板的至少一个主平面上形成含有树脂的保护膜、制成磁记录介质用玻璃素板的保护膜形成工序。