[发明专利]一种材料在冲击状态下的压阻效应测量装置

权利要求书

1.一种材料在冲击状态下的压阻效应测量装置，其特征在于包括水平台和设置在水平台上的支架，所述的支架上设置有一个垂直通道，位于垂直通道底部的水平台上放置有第一绝缘薄膜，第一绝缘薄膜上放置有试样材料，试样材料的两端面涂有电极层，试样材料上放置有第二绝缘薄膜，所述的第二绝缘薄膜上放置有定位球，所述的垂直通道的上方设置有入射阀门，入射阀门上设置有入射球，所述的电极层与动态测量高阻仪连接，动态测量高阻仪与动态存储示波器连接，高速摄影仪正对着试样材料和动态存储示波器。

2.根据权利要求1所述的一种材料在冲击状态下的压阻效应测量装置，其特征在于所述的支架上设置有可上下移动的搁板，所述的入射阀门安装在搁板上。

3.根据权利要求2所述的一种材料在冲击状态下的压阻效应测量装置，其特征在于支架上垂直固定有标尺。

4.根据权利要求3所述的一种材料在冲击状态下的压阻效应测量装置，其特征在于试样材料外套有两端开口的透明筒体，透明筒体固定在支架上。

5.根据权利要求4所述的一种材料在冲击状态下的压阻效应测量装置，其特征在于定位球和入射球的直径相同，垂直通道的直径大于定位球的直径1mm～2mm。

6.根据权利要求5所述的一种材料在冲击状态下的压阻效应测量装置，其特征在于第一绝缘薄膜和第二绝缘薄膜的厚度相同，其厚度为0.5mm～1mm。