[发明专利]图像处理方法、图像处理装置以及显示装置

说明书

技术领域

本公开涉及一种图像处理方法、图像处理装置以及显示装置。

背景技术

已知，利用左眼图像（L图像）和右眼图像（R图像）的立体图像（原始图像）以及视差信息（parallax information）来生成所需的生成相位的插值图像。所生成的插值图像作为多视点图像中的一个单视点图像而被显示在可立体显示的显示装置上的预定位置处。

原始图像的视差信息表示立体图像的深度方向有关的信息。例如，可以通过提取L图像和R图像在水平方向上的偏移量作为视差，以获取原始图像的视差信息。当生成在立体图像之间进行差值而得的插值图像时使用该视差。然而，当利用从L图像和R图像提取的视差图（disparity map）来生成插值图像时，在某些情况下，会因为视差提取误差而生成插值误差。其中一个插值误差的实例是，已绘制了表示前景的像素的插值图像的坐标被表示背景的像素覆盖。结果，前景会被插值图像的一部分所侵蚀，并且插值图像的质量劣化。

为了解决这个问题，日本专利申请公开号JP-A-2010-78768公开了一种技术，其中，当利用视差来生成图像时，执行写入是从拥有更大深度值的像素（即，具有更深深度的像素）开始的，因而能够避免前景的像素被背景的像素所覆盖。

发明内容

然而，利用日本专利申请公开号JP-A-2010-78768所公开的技术，对原始图像中的每个像素都要进行视差大小的比较。结果，处理负载加大，而且该技术效率不高。

此外，例如，当通过动态规划（DP）匹配来提取L图像与R图像之间的视差时，如图1所示，如果一个物体被绘制在原始图像L和R中的每一个中，L图像和R图像的视差图L和R中的区域La与Lb是遮挡区，在该区中，L图像和R图像的左右图像之间没有对应关系。因此，一般在遮挡区中，得不到视差值或出现误差的可能性很高。所以，在这种情况下，即使按照日本专利申请公开号JP-A-2010-78768中所公开的那样，对原始图像中的所有像素都进行视差大小比较，在该视差本身中出现提取误差的可能性也会很高。结果，前景的像素被背景的像素覆盖的这个现象不能完全避免。

鉴于此，需要一种可减少视差提取误差并且生成高质量图像的图像处理方法、图像处理装置以及显示装置。

根据本公开的一个实施方式，提供了一种图像处理方法，包括：获取原始图像；以及，对于所获取的原始图像内的未被从中提取或获取视差信息的区域中的像素，根据至少两个像素的视差信息的大小关系，来生成该区域中像素的视差信息，所述至少两个像素临近或接近该区域中的像素，并且被包括在从其提取或获取视差信息的像素中。

根据本公开的另一实施方式，提供了一种图像处理装置，包括：获取部，获取原始图像；生成部，对于所获取的原始图像内的未被从中提取或获取视差信息的区域中的像素，根据至少两个像素的视差信息的大小关系，来生成该区域中像素的视差信息，所述至少两个像素临近或接近该区域中的像素，并且被包括在从其提取或获取视差信息的像素中。

根据本公开的另一实施方式，提供了一种显示装置，包括：获取部，获取原始图像；生成部，对于所获取的原始图像内的未被从中提取或获取视差信息的区域中的像素，根据至少两个像素的视差信息的大小关系，来生成该区域中像素的视差信息，所述至少两个像素临近或接近该区域中的像素，并且被包括在从其提取或获取视差信息的像素中；以及显示控制部，利用所生成的视差信息来控制原始图像的显示。

如上所述，根据本公开实施方式的图像处理，可减少视差提取误差从而生成高质量图像。

附图说明

图1是示出视差图内的遮挡区的图；

图2是说明根据比较例的遮挡区插值法以及根据本公开的实施方式的遮挡区插值法的图；

图3是示出利用图2所示的插值法对遮挡区进行插值所得到的结果的图；

图4是根据本公开的实施方式的图像处理装置的功能配置图；

图5是示出根据本公开的实施方式中执行的图像处理的流程图；

图6是示出根据本公开的实施方式中执行的视差图生成处理的流程图；

图7是示出插值前后的视差值的实例的图；

图8是说明根据第一变形例的遮挡区插值法的图；

图9是说明根据第一变形例的插值法的图；

图10是说明根据第二变形例的遮挡区插值法的图；以及

图11是说明根据第二变形例的插值法的图。

具体实施方式