[发明专利]一种大马士革工艺空气间隔的制作方法

权利要求书

1.一种大马士革工艺空气间隔的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，在基体上淀积第一介电层，刻蚀第一介电层以形成第一沟槽图案，淀积第一隔离层；

步骤2，去除第一沟槽底部的第一隔离层；

步骤3，在第一介电层和第一隔离层上形成第一铜互连线；

步骤4，去除第一隔离层，形成第一空气间隔；

步骤5，采用光刻工艺，在第一光刻胶上形成空气间隔；并刻蚀以在第一介电层上第一沟槽之间形成第二空气间隔。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

步骤6，淀积第二介电层，刻蚀形成第二沟槽图案，淀积第二隔离层，并去除第二沟槽底部的第二隔离层；

步骤7，在第二介电层上形成第一通孔，并形成第二铜互连线；

步骤8，去除第二隔离层，形成第三空气间隙；

步骤9，采用光刻工艺，在第二光刻胶上形成空气间隔；并刻蚀以在第二介电层上第二沟槽之间形成第四空气间隔。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤1中的第一介电层由低介电常数材料制成。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤1中的第一介电层通过化学气相沉积形成。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤1中的第一隔离层由正硅酸乙酯制成。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤3中的第一铜互连线通过淀积第一金属阻挡层和电镀填充铜形成。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一金属阻挡层由TiN、Ti、TaN、Ta、WN、W中的一种或多种制成。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤4中通过湿法刻蚀去除第一隔离层。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述湿法刻蚀所选溶剂为氟化氢溶液。

10.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述步骤7中通过光刻工艺形成第一通孔。