[发明专利]用于确定透射和/或反射特性的测量方法和测量设备无效
申请号: | 201210187979.9 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN102818787A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | J.马格拉夫;P.兰帕特 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司微成像有限责任公司 |
主分类号: | G01N21/55 | 分类号: | G01N21/55;G01N21/59;G01N21/958 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张涛;李家麟 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 确定 透射 反射 特性 测量方法 测量 设备 | ||
1.一种用于测量尤其是大面积半透明对象(1)的透射和反射特性的光学测量方法,优选地能应用于在制造被表面涂层的衬底时的工艺和质量控制,其中
-利用两个辐射漫射光的照明装置(7,9)和两个光电探测器(4,14)进行所述测量,其方式是或者:
-利用照明装置中的第一照明装置(9)照射对象(1)的第一大面(3),并且在此同时利用第一光电探测器(14)测量总透射和利用第二光电探测器(4)测量在该大面(3)处的反射,和然后
-利用第二照明装置(7)照射对象(1)的与第一大面相对的第二大面(2),并且在此同时利用第二光电探测器(4)测量漫透射和利用第一光电探测器(14)测量在该大面(2)处的反射,
或者顺序地以任意顺序:
-利用照明装置中的第一照明装置(9)照射对象(1)的第一大面(3)并且在此利用第一光电探测器(4)测量总透射,
-利用第二照明装置(7)照射对象(1)的与第一大面相对的第二大面(2)并且在此利用第二光电探测器(4)测量漫透射。
2.根据权利要求1所述的光学测量方法,其中在顺序地测量的情况下附加地
-利用第一照明装置(9)照射对象(1)的第一大面(3)并且在此利用第二光电探测器(4)测量在该大面(3)处的反射,和/或
-利用第二照明装置(7)照射对象(1)的第二大面(2)并且在此利用第一光电探测器(14)测量在该大面(2)处的反射。
3.根据权利要求1或2所述的光学测量方法,其中
-两个照明装置(7,9)和两个光电传感器(4,14)关于彼此固定地定位,
-关于对象(1),在空间上给对象(1)的第一大面(3)分配一个照明装置(9)和一个光电探测器(4)并且在空间上给相对的大面(2)分配另一照明源(7)和第二光电探测器(14),和
-总是交替地接通照明装置(7,9),使得分别仅照射两个大面(2,3)之一。
4.根据前述权利要求之一所述的光学测量方法,其中使用方向敏感的光电探测器(4,14)或者在光电探测器(4,14)之前分别布置方向敏感的光学系统。
5.根据前述权利要求之一所述的光学测量方法,其中作为照明装置(7,9)使用分别具有集成光源(10,11)的乌布利希球。
6.根据前述权利要求之一所述的光学测量方法,其中
-使对象(1)从两个照明装置(7,9)旁边移过,
-在移动方向R上
-通过各自的照射持续时间,
-通过在各个测量之间的时间间隔,和
-对象(1)的移动速度
确定在测量期间所测量的对象区域的空间扩展,和
-周期性地重复测量,以测量多个对象区域。
7.根据前述权利要求之一所述的光学测量方法,其中按照国际标准ASTM D 1003的预设来进行透射特性的测量。
8.根据前述权利要求之一所述的光学测量方法,其中从总透射和漫透射的测量结果中按照函数 HAZE = Tdiffus/Ttotal*100%来确定对象(1)的浑浊度的HAZE值。
9.一种用于确定大面积半透明的对象(1)的透射和反射特性的光学测量设备,所述对象优选是被涂层的衬底形式,所述对象不断地从测量设备旁边移过,所述光学测量设备包括:
-被实施为乌布利希球的第一照明装置(9),从所述第一照明装置穿过光出射口(8)的光对准对象(1)的第一大面(3),
-被实施为乌布利希球的第二照明装置(7),从所述第二照明装置穿过光出射口(6)的光对准对象(1)的与第一大面相对的大面(2),
-方向敏感的光电探测器(4),其探测方向(D4)穿过两个光出射口(6,8)指向位于第二照明装置(7)的内壁处的光阱(15),
-方向敏感的光电探测器(14),其探测方向(D14)穿过两个光出射口(6,8)指向第一照明装置(9)的反射内壁,其中
-探测方向(D4,D14)处于相互不同的测量平面中。
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