[发明专利]一种可调控介质层磁性的阻变存储器有效
申请号: | 201210186988.6 | 申请日: | 2012-06-07 |
公开(公告)号: | CN102738391A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 宋成;潘峰;陈光;彭晶晶 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24;G11C13/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 100084 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 调控 介质 磁性 存储器 | ||
1.一种可调控介质层磁性的阻变存储器,包括底电极、顶电极以及位于所述底电极和顶电极之间的介质层;其特征在于:所述介质层为过渡金属掺杂的氧化锌薄膜。
2.根据权利要求1所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:所述过渡金属选自下述至少一种:Co、Fe和Ni。
3.根据权利要求1或2所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:所述介质层由下述原子百分比的元素组成:过渡金属为1.0~3.0 at.﹪,Zn为47.0~49.0 at.﹪,其余为O。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:所述介质层的厚度可为20~200nm。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:所述底电极和顶电极均为铂电极或金电极。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:通过调控所述阻变存储器的电阻值变化,实现对所述阻变存储器的磁性调控。
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