[发明专利]一种可调控介质层磁性的阻变存储器有效

专利信息
申请号: 201210186988.6 申请日: 2012-06-07
公开(公告)号: CN102738391A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 宋成;潘峰;陈光;彭晶晶 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24;G11C13/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100084 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 调控 介质 磁性 存储器
【权利要求书】:

1.一种可调控介质层磁性的阻变存储器,包括底电极、顶电极以及位于所述底电极和顶电极之间的介质层;其特征在于:所述介质层为过渡金属掺杂的氧化锌薄膜。

2.根据权利要求1所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:所述过渡金属选自下述至少一种:Co、Fe和Ni。

3.根据权利要求1或2所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:所述介质层由下述原子百分比的元素组成:过渡金属为1.0~3.0 at.﹪,Zn为47.0~49.0 at.﹪,其余为O。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:所述介质层的厚度可为20~200nm。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:所述底电极和顶电极均为铂电极或金电极。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的可调控介质层磁性的阻变存储器,其特征在于:通过调控所述阻变存储器的电阻值变化,实现对所述阻变存储器的磁性调控。

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