[发明专利]光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置无效
| 申请号: | 201210174949.4 | 申请日: | 2012-05-31 |
| 公开(公告)号: | CN102680447A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
| 发明(设计)人: | 张海波;袁志军;周军;楼祺洪;魏运荣;何兵;漆云凤;杜松涛 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
| 地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学材料 缺陷 损伤 检测 装置 | ||
1.一种光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置,其特征在于该检测装置由激光器(1)、聚焦透镜(2)、载物台(3)、待测光学样品(4)、成像透镜(5)、光纤(6)、光栅光谱仪(7)和计算机(8)组成,上述各部件的位置关系如下:
激光器(1)输出的探测光束经聚焦透镜(2)聚焦后,入射到置于载物台(3)上的待测光学样品(4),激光激发待测光学样品(4)产生的荧光信号经成像透镜(5)后由光纤(6)导入所述的光栅光谱仪(7),由该光栅光谱仪(7)输出的荧光信号的光谱和荧光强度信息送所述的计算机(8)显示。
2.根据权利要求1所述的光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置,其特征在于所述的激光器(1)是具有高脉冲能量、高光子能量的准分子激光器或倍频YAG激光器。
3.根据权利要求1所述的光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置,其特征在于所述的待测光学样品(4)为熔融石英、或氟化钙晶体的紫外光学材料。
4.根据权利要求1所述的光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置,其特征在于所述的载物台(3)为空间XYZ三维行程可调的平台。
5.根据权利要求1所述的光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置,其特征在于所述的光纤(6)为抗紫外辐射的石英光纤,该光纤在190nm-1100nm较宽的光谱范围内均有较好的透射性,并且紫外激光辐照后透射率不会出现明显的老化。
6.根据权利要求1所述的光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置,其特征在于所述的光栅光谱仪(7)的波长响应范围为190nm~1100nm。
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