[发明专利]玻璃保护膜、玻璃制品及玻璃防刮伤方法有效
申请号: | 201210171319.1 | 申请日: | 2012-05-29 |
公开(公告)号: | CN102717548A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 郑芳平;张迅 | 申请(专利权)人: | 江西沃格光电科技有限公司 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;B32B17/06;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C03C17/34 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 吴平 |
地址: | 338004 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 保护膜 玻璃制品 防刮伤 方法 | ||
1.一种玻璃保护膜,其特征在于,包括依次层叠的五氧化二铌层、二氧化硅层及氮化碳层。
2.根据权利要求1所述的玻璃保护膜,其特征在于,所述五氧化二铌层的厚度为14~16nm,所述二氧化硅层的厚度为117~123nm,所述氮化碳层的厚度为4~8nm。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃保护膜,其特征在于,所述五氧化二铌层的厚度为15nm,所述二氧化硅层的厚度为120nm,所述氮化碳层的厚度为5nm。
4.一种玻璃制品,包括玻璃及形成于所述玻璃上的玻璃保护膜,其特征在于,所述玻璃保护膜包括依次层叠的五氧化二铌层、二氧化硅层及氮化碳层。
5.一种玻璃防刮伤方法,其特征在于,包括如下步骤:
采用磁控溅射技术在玻璃上制备五氧化二铌层和层叠于所述五氧化二铌层上的二氧化硅层;
在所述二氧化硅层上采用磁控溅射技术制备氮化碳层,所述磁控溅射技术是采用石墨靶材溅射镀膜,并通入氮气作为反应气体,其中所述氮气的流量与溅射功率的比值为4~8SCCM/KW。
6.根据权利要求5所述的玻璃防刮伤方法,其特征在于,所述五氧化二铌层的制备是采用铌靶材,在氧气气氛下溅射而成,所述氧气的流量与溅射功率的比值为4~10SCCM/KW。
7.根据权利要求5所述的玻璃防刮伤方法,其特征在于,所述二氧化硅层的制备是采用硅靶材,在氧气气氛下溅射而成,所述氧气的流量与溅射功率的比值为8~15SCCM/KW。
8.根据权利要求5所述的玻璃防刮伤方法,其特征在于,所述在玻璃上制备五氧化二铌层之前还包括玻璃的清洗及烘干的步骤。
9.根据权利要求5所述的玻璃防刮伤方法,其特征在于,所述五氧化二铌层的厚度为14~16nm,所述二氧化硅层的厚度为117~123nm,所述氮化碳层的厚度为4~8nm。
10.根据权利要求9所述的玻璃防刮伤方法,其特征在于,所述五氧化二铌层的厚度为15nm,所述二氧化硅层的厚度为120nm,所述氮化碳层的厚度为5nm。
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