[发明专利]轴密封构造以及旋转流体机械有效

专利信息
申请号: 201210165428.2 申请日: 2012-05-25
公开(公告)号: CN102797678A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 宫武利幸;桑原英明 申请(专利权)人: 株式会社神户制钢所
主分类号: F04C27/00 分类号: F04C27/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 朱美红;杨楷
地址: 日本兵库*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 密封 构造 以及 旋转 流体 机械
【权利要求书】:

1.一种轴密封构造,对旋转轴与隔开间隔而包围上述旋转轴的壳体的间隙进行密封,包括:

第一突出部,从上述壳体朝向上述旋转轴突出,具有垂直于上述旋转轴的环状的密封面;

第二突出部,从上述壳体朝向上述旋转轴突出,具有与上述密封面对置的支承面;

密封环,配置于上述第一突出部与上述第二突出部之间,内径比上述旋转轴的外形稍大;

以及施力部件,配设于上述密封环与上述支承面之间,将上述密封环向上述密封面按压。

2.根据权利要求1所述的轴密封构造,其特征在于,

上述密封环由与上述旋转轴热膨胀率相同的材质构成。

3.根据权利要求1所述的轴密封构造,其特征在于,

上述密封环具有令PTFE的微粒子弥散共析于无电解镍被膜而成的复合镀膜。

4.根据权利要求1所述的轴密封构造,其特征在于,

具有多个轴密封部,所述轴密封部由上述第一突出部、上述第二突出部、上述密封环、上述施力部件的组合构成,

在上述壳体上设置密封流体流路,所述密封流体流路向形成于邻接的上述密封环之间的供给空间中供给密封流体。

5.根据权利要求4所述的轴密封构造,其特征在于,

上述壳体设置有排出流路,所述排出流路令形成于邻接的上述密封环之间的排气空间与比上述密封流体压力低的低压空间连通,

上述排出空间位于比上述供给空间靠高压侧。

6.根据权利要求4所述的轴密封构造,其特征在于,

上述旋转轴在与上述密封流体流路对置的位置处具有在全周的范围内形成的梯形截面的梯形槽。

7.根据权利要求4所述的轴密封构造,其特征在于,

上述旋转轴在与上述排出流路对置的位置处具有在全周的范围内形成的三角形截面的三角槽。

8.根据权利要求4所述的轴密封构造,其特征在于,

具有:配设在比上述供给空间靠低压侧且具有朝向低压侧扩径的圆锥形的外周面的套筒;

和从上述壳体突出而具有在与上述外周面之间形成微小的间隙的圆锥形的倾斜面的第三突出部。

9.一种旋转流体机械,其特征在于具有权利要求1~8的任意一项所述的轴密封构造。

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