[发明专利]一种高纯度不对称二烷基次膦酸的合成方法

权利要求书

1.一种高纯度不对称二烷基次膦酸的合成方法，所述的不对称二烷基次膦酸结构式如通式（Ⅰ）,

其中，R₁和R₂均为碳原子数在2-20之间的烷基或环烷基；R₃为H或CH₃；R₄为碳原子数在1-20之间的烷基或环烷基;

其特征在于，合成方法包括以下步骤：

（1）将次磷酸钠、酸、大位阻单烯烃、引发剂按比例置入装有搅拌、可加热的密闭反应釜中，于40-200℃反应1-100小时，其间或补加引发剂；其中大位阻单烯烃和次磷酸钠的摩尔比大于等于1，优选2~4，酸和次磷酸钠的摩尔比大于1，优选1.2~3，引发剂总量和次磷酸钠的摩尔比为0.05~10；

（2）将步骤（1）所得产物溶解于有机溶剂中，先用水洗，然后用碱溶液与生成的单烷基次膦酸反应，若生成的单烷基次膦酸盐溶于水相或部分溶于水相并在水相与有机相之间形成第三相，则分出水相及中间相，用酸溶液中和至酸性，再用有机溶剂萃取，得到的富含单烷基次膦酸的有机相经饱和盐水洗涤，干燥剂干燥，过滤，有机溶剂经减压蒸馏或是用旋转蒸发仪去除，得到单烷基次膦酸；若生成的单烷基次膦酸盐溶于有机相或部分溶于有机相并在有机相与水相之间形成第三相，则弃去水相，有机相经酸溶液酸化、饱和盐水洗涤、干燥剂干燥后，过滤，有机溶剂和多余的大位阻单烯烃经减压蒸馏或是用旋转蒸发仪去除，得到单烷基次膦酸；或者大位阻单烯烃不除去，作为下一步反应的溶剂；

（3）将单烷基次膦酸、酸、小位阻单烯烃和引发剂按比例置入同步骤（1）的密闭反应釜中，于40-200℃反应1-100小时，其间或补加引发剂；其中小位阻单烯烃和单烷基次膦酸的摩尔比大于1，优选1~2.5，酸和单烷基次膦酸的摩尔比为0~10，引发剂总量和单烷基次膦酸的摩尔比为0.05~10;

（4）将步骤（3）所得产物溶解于有机溶剂中，依次用水、碱溶液、酸溶液、饱和盐水洗涤，干燥剂干燥，过滤，有机溶剂和多余的烯烃减压蒸馏或是用旋转蒸发仪去除，即得到不对称二烷基次膦酸。

2.根据权利要求1所述的一种高纯度不对称二烷基次膦酸的合成方法，其特征在于，步骤（1）得到的单烷基次膦酸产物不进行纯化处理，而直接将小位阻单烯烃和引发剂加入到步骤（1）得到的单烷基次膦酸产物中，在密闭反应釜中于40-200℃反应1-100小时，得到不对称二烷基次膦酸的产物溶液。

3.根据权利要求1所述的一种高纯度不对称二烷基次膦酸的合成方法，其特征在于，所述的酸为盐酸、硫酸、磷酸、甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、异丁酸、戊酸、异戊酸、新戊酸、己酸、2-乙基己酸、草酸、丙二酸、丁二酸中的一种或一种以上。

4.根据权利要求1所述的一种高纯度不对称二烷基次膦酸的合成方法，其特征在于，所述的大位阻单烯烃为三异丁烯、2,3-二甲基-2-丁烯、2,4,4-三甲基-2-戊烯、3-庚烯、3-癸烯、4-辛烯、4-壬烯、5-癸烯、5-十一碳烯、6-十二碳烯、6-十三碳烯、7-十四碳烯、8-十六碳烯、9-十八碳烯、10-二十一碳烯、1,3-二甲基环戊烯、1,3-二乙基环己烯、5-叔丁基环庚烯、环庚烯或环辛烯。

5.根据权利要求1所述的一种高纯度不对称二烷基次膦酸的合成方法，其特征在于，所述的引发剂为叔丁基过氧化氢、异丙苯过氧化氢、过氧化二叔丁基、过氧化二异丙苯、过氧化二苯甲酰、过氧化十二酰、过氧化叔戊酸叔丁酯、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化二碳酸二异丙酯、过氧化二碳酸二乙基己酯、过氧化二碳酸二环己酯、过氧化二碳酸二苯氧乙酯、偶氮二异丁腈中的一种或一种以上。

6.根据权利要求1所述的一种高纯度不对称二烷基次膦酸的合成方法，其特征在于，所述的有机溶剂为石油醚、戊烷、己烷、庚烷、环己烷、三氯甲烷、乙醚、异丙醚、丁醚、苯甲醚、苯、甲苯、二甲苯、异丙苯、二异丁基酮、4-庚酮、2-壬酮、煤油中的一种或一种以上。

7.根据权利要求1所述的一种高纯度不对称二烷基次膦酸的合成方法，其特征在于，所述的碱溶液为氢氧化锂溶液、氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液中一种或一种以上；所述的酸溶液为硫酸溶液、盐酸溶液、硝酸溶液、氢溴酸溶液中的一种或一种以上。