[发明专利]一种无掩模数字投影光刻的图形拼接方法无效

专利信息
申请号: 201210145576.8 申请日: 2012-05-11
公开(公告)号: CN102722085A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 朱江平;胡松;陈铭勇;唐燕;何渝 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G06T7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 梁爱荣
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 无掩模 数字 投影 光刻 图形 拼接 方法
【权利要求书】:

1.一种无掩模数字投影光刻的图形拼接方法,其特征在于:所述方法包括步骤:

步骤S1:对待刻蚀图形进行分割,得到分割后的多帧子图形,且每帧子图形尺寸相同;

步骤S2:设置模板尺寸与每帧子图形尺寸相同;

步骤S3:将分割后的每帧子图形与所述模板相乘,边界拼接区域的灰度值受到调制,不需要拼接的区域其灰度值保持原样,以此用灰度调制模板调制边界拼接区域的灰度值,获得调制后的子图形;

步骤S4:对调制后的子图形通过数字微镜显示逐帧曝光,实现数字微镜显示的调制后的子图形向基片复制转移的拼接。

2.如权利要求1所述的图形拼接方法,其特征在于:所述待刻蚀图形的分割步骤如下:

步骤S11:设定每帧子图形的大小为1024×768像素;

步骤S12:设定每帧子图形之间的重叠区域宽度(edge);

步骤S13:针对步骤S12中设定的重叠区域宽度(edge),判断待刻蚀图形是否能分割为1024×768像素的整数倍,如果能,则不进行边界填充,则分割结束;如果不能,则将待刻蚀图形边界填充灰度为0使得能被分割成1024×768像素的整数倍,然后重新分割。

3.如权利要求1所述的图形拼接方法,其特征在于:所述调制后的子图形向基片复制转移的拼接,共有九种边界拼接情况,需要设计九种灰度调制模板,每个模板只在其周围相邻的重叠边界区域设定渐变灰度值。

4.如权利要求1所述的图形拼接方法,其特征在于:调制后子图形的大小为1024×768像素。

5.如权利要求1所述的图形拼接方法,其特征在于:还包括通过计算机控制数字微镜显示图形灰度调制状态,调制后的单帧子图形曝光时,如果调制后的单帧子图形不同位置点的灰度值不一样,则数字微镜相应位置的调制状态将发生改变。

6.如权利要求1所述的图形拼接方法,其特征在于:不同的调制后的子图形灰度值对应于数字微镜的各个响应状态,继而每帧数字微镜显示的调制后的子图形对应于基片位置图形刻写时,光刻胶被刻蚀程度与灰度值相对应。

7.如权利要求1所述的图形拼接方法,其特征在于:所述用灰度调制模板调制边界拼接区域灰度值的步骤包括:对边界拼接区域的灰度值由灰度调制模板的外侧到内侧灰度依次减小。

8.如权利要求7所述的图形拼接方法,其特征在于:对于四次重叠边界拼接区域的灰度值设置有别于两次重叠的情况,灰度调制模板的外侧到内侧灰度依次减小;数字微镜两次显示的子图形拼接后,各边界拼接区域的灰度值和与四次重叠后各处的灰度值相等。

9.如权利要求1所述的图形拼接方法,其特征在于:在数字微镜显示的调制后的子图形的边界拼接区域的位置处,经灰度调制模板调制的线条灰度或者被刻蚀的程度是渐变的,没有明显的跃变,从而实现数字微镜显示的子图形的拼接,使待刻蚀图形整体向基片的复制转移。

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