[发明专利]装饰膜及应用该装饰膜的壳体无效

专利信息
申请号: 201210143462.X 申请日: 2012-05-10
公开(公告)号: CN103391695A 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 李伍;黄大清;翁东生;李鹏松;李掌起;魏强;张强 申请(专利权)人: 深圳富泰宏精密工业有限公司
主分类号: H05K5/00 分类号: H05K5/00;B44C5/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 装饰 应用 壳体
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种装饰膜及应用该装饰膜的壳体。

背景技术

模内装饰技术具有装饰效果好及耐磨性高等优点,被广泛运用于手机壳体的制造。为使手机表面具有特殊的金属光泽,可在模内装饰膜的透明薄膜表面真空溅镀一具金属光泽的膜层,如氧化硅层。然而氧化硅与现有的二液型聚酯类油墨装饰层之间的附着力较差,限制了氧化硅溅镀层在模内装饰领域的应用。

发明内容

有鉴于此,有必要提供一种有效解决上述问题的装饰膜。

此外,还有必要提供一种应用上述装饰膜的壳体。

一种装饰膜,包括薄膜和依次设于该薄膜表面的氧化硅层及二液型聚酯类油墨层,形成该二液型聚酯类油墨层的油墨中添加有硅氧烷偶联剂。

一种壳体,该壳体包括装饰膜及本体,该装饰膜包括薄膜和依次设于该薄膜表面的氧化硅层及二液型聚酯类油墨层,该本体通过注塑成型的方式形成于该二液型聚酯类油墨层上,形成该二液型聚酯类油墨层的油墨中添加有硅氧烷偶联剂。

氧化硅层的表面具有类似于晶体表面的性质。该氧化硅层表面存在的键力而形成较强的表面张力,致使其表面自由能较高,且其表面极性基团具有很强的吸水性。吸水后,水使氧化硅层表面的硅氧键断裂形成高稳定性的硅醇基。在制作所述装饰膜的过程中,硅氧烷偶联剂预先添加到二液型聚酯类油墨中,印刷后硅氧烷偶联剂扩散到氧化硅层的表面,并水解或反应生成硅醇基。该硅醇基与氧化硅层表面的硅醇基生成稳定的氢键或缩合为稳定的硅氧键,从而增强了二液型聚酯类油墨层与氧化硅层的结合力。

附图说明

图1为本发明较佳实施例的装饰膜的剖视示意图。

图2为本发明较佳实施例的装饰膜应用于壳体上的剖视示意图。

主要元件符号说明

壳体100装饰膜10本体20薄膜12氧化硅层14二液型聚酯类油墨层16保护层18

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

请参阅图1及图2,本发明较佳实施例壳体100包括一装饰膜10及一通过模内注塑成型的方式形成于该装饰膜10上的本体20。装饰膜10包括一薄膜12及依次覆盖于薄膜12表面的一氧化硅层14、一二液型聚酯类油墨层16和一保护层18。薄膜12由透明或半透明的塑胶材质制成,如聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)。其中氧化硅层14及二液型聚酯类油墨层16均起装饰作用,且氧化硅层14与二液型聚酯类油墨层16在其界面处形成有氢键及硅氧键。保护层18与本体20连接,用以防止二液型聚酯类油墨层16在后续的注塑过程中被损坏。

所述装饰膜10的制备方法,主要包括如下步骤:

提供透明的薄膜12,并在薄膜12的一表面溅射一氧化硅层14。提供一磁控溅射设备(图未示),将薄膜12放入磁控溅射设备的真空镀膜室并使其沿预定轨迹转动,在该磁控溅射设备中安装硅靶。对磁控溅射设备的真空镀膜室抽真空至本底真空度为3.0×10-3托,向真空镀膜室内通入氧气。开启硅靶的电源溅镀,以形成氧化硅层14。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳富泰宏精密工业有限公司,未经深圳富泰宏精密工业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210143462.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top