[发明专利]强化玻璃基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201210143377.3 | 申请日： | 2008-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN102701587A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 村田隆 | 申请（专利权）人： | 日本电气硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03C3/087 | 分类号： | C03C3/087;C03C3/085;C03C3/083;C03B27/03;C03B17/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 强化 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一种强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板在表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，以质量％计含有40～71％的SiO2、3～21％的Al2O3、0～3.5％的Li2O、7～20％的Na2O、0～15％的K2O。
2.根据权利要求1所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板在表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，以质量％计含有40～71％的SiO2、7.5～21％的Al2O3、0～2％的Li2O、10～19％的Na2O、0～15％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO。
3.根据权利要求1所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板在表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，以质量％计含有40～71％的SiO2、8.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～19％的Na2O、0～10％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
含有0.01～3％的SnO2。
5.根据权利要求1～4中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
含有0.001～10％的ZrO2。
6.根据权利要求1～5中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板是经化学强化而成的。
7.根据权利要求1～6中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
表面的压缩应力为300MPa以上，并且压缩应力层的厚度为10μm以上，玻璃基板内部的拉伸应力为200MPa以下。
8.根据权利要求1～7中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
具有未研磨的表面。
9.根据权利要求1～8中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板由液相温度为1200℃以下的玻璃制成。
10.根据权利要求1～9中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板由液相粘度为104.0dPa·s以上的玻璃制成。
11.根据权利要求1～10中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板用作显示器的外罩玻璃。
12.根据权利要求1～10中任意一项所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板用作太阳能电池的外罩玻璃。
13.一种玻璃，其以质量％计含有40～71％的SiO2、3～21％的Al2O3、0～3.5％的Li2O、7～20％的Na2O、0～15％的K2O。
14.根据权利要求13所述的玻璃，其中，
所述玻璃以质量％计含有40～71％的SiO2、7.5～21％的Al2O3、0～2％的Li2O、10～19％的Na2O、0～15％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO、0.01～3％的SnO2。
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