[发明专利]整体真空煎炸锅

说明书

技术领域

本发明涉及在减小的气压下煎炸食品，且特别涉及一种改进的整体煎炸设备，其自身具有压力容器，而不需要围绕可移除煎炸系统的独立的压力容器。

背景技术

在减小的气压或真空下煎炸食品的优点很好理解。烹调环境在大约负14psia或28.5毫米汞柱真空，食品可以在较低温度下煮熟。在烹调油或脂是烹调介质的情况下，有效的温度可以接近120℃到大约140℃。在这个温度范围内，食品中的丙烯酰胺的产生大大减少，由于油由产品吸收，提高了产品质量。美拉德反应，一种类似于焦化的非酶褐变在较低压力、较低温度参数下也更容易控制。众所周知，美拉德反应源自高温下氨基酸和还原糖之间的化学反应。高温时，会形成不希望的丙烯酰胺。

这些领域的工作人员认识到并已经研发了真空油炸包括土豆片和类似的一系列产品的设备。现有的真空烹调设备基本跟随两种设计结构中的任何一个。第一，分批烹调器用于一个循环，其中要被烹调的产品放在一个足够牢固地承受真空的腔室内，该腔室随后被清空，烹调热作用于希望时间段，此后，该腔室在真空破坏后重新开放。然后，产品被移除且像通常的分批烹调过程一样重复循环。尽管烹调的食品令人满意，但产量低，且鉴于低产量使设备成本高。该腔室的清洁和维护很麻烦且费时。该结构是由1998年6月16日授权的Tippmanm美国专利5,767,487所代表的。

第二，在压力容器中可操作地安装一个可移除的煎炸设备的设计结构适用于获得连续产品真空煎炸。这是由1999年11月23日授权的Hashiguchi，et al的美国专利5,988,051、由2005年8月16日授权的Van Der Doe的美国专利6,929,812和1989年8月1日授权的Yang的美国专利4,852475所代表的。在压力容器内的可移除的煎炸锅结构在工厂给定的生产率下造价昂贵且占用很大的占地面积。这是由于需要维护区和压力容器外部的外部煎炸锅支撑结构，进入其中，可以维修煎炸锅。此外，压力容器内运转的煎炸锅一端需要一个较大的密封舱，从而使煎炸锅可以移进和移出来清洁和维护。对于压力容器内的煎炸锅结构，维护成本和相当大的工厂操作空间被认为是缺点。

发明内容

总之，本发明在于硬壳式构造的真空煎炸锅通道，其构造成承受内部全真空到普通大气压的重复循环，并在密封的两个壳体(盖和基部)内形成可操作的热油煎炸锅。提供起重机来从基部提升壳体盖，从而允许进入煎炸锅来维修和维护，在通道的每个端部提供产品进口和出口密封锁，通过他们在烹调时接受食品来煎炸和排空。连接到通道上的真空系统装置选择性地移除通道内的蒸气空气，直到基本全真空，负14.7psi或28mm汞柱。这样，热油煎炸锅自身带有压力容器，而不需要现有技术中的任何单独的外部压力容器。

本发明的总的目的是提供一种整体真空煎炸锅，完全在不要外部压力环境下操作，不需要任何维修和维护的外部支撑结构，容易开启和关闭，回到可操作的密封状态。

本发明的另一个目的是提供一种整体真空煎炸锅，其与在压力容器中的煎炸锅设计相比制造相对经济且在加工厂内占用合适的位置。

本发明的另一目的是提供装置容易地密封两个通道壳体部分，以保持内部真空在很长的服务期间不降低并承受重复的真空循环。

本发明的另一个目的是提供一种真空煎炸锅，能在很低或零大气压下煎炸食物，以获得产品外观、油含量和低丙烯酰胺含量的益处，并在很长的服务期，节约制造、维护和操作费用

通过结合附图和随后的具体实施例的描述，本发明的这些和其他目的将变得很清楚。

附图说明

图1为根据本发明制造并显示本发明特征和特性的整体真空煎炸锅的一个实施例的立体图；

图2是图1所示的整体真空煎炸锅的纵向剖视图；

图3是图2所示的煎炸锅组件的俯视图；

图4A和4B是煎炸锅组件的横截面图，图4A显示了处于提升位置(用于清洁和维护)的煎炸锅盖，图4B显示了处于落下位置的盖；

图4c是使煎炸锅盖密封配合到煎炸锅基部的密封结构的局部放大图。

具体实施方式

附图显示了根据本发明制造并体现本发明原则的整体真空煎炸锅10，如图1、2和4所示，其包括一个可密封的、细长的烹调通道11。该通道可沿水平面12分成上盖组件13和基部或平底锅组件14。真空煎炸锅10配备几对支撑腿16，附图中显示的为三对。