[发明专利]一种石墨烯的制备方法

权利要求书

1.一种石墨烯的制备方法，其特征在于：通过将石墨经插层氧化处理得到具有强酸性的氧化石墨分散液，并在该具有酸性的氧化石墨分散液中添加还原剂使其还原为石墨烯；其中所述的酸性氧化石墨分散液指的是p H值≤6的氧化石墨分散液；

所述还原剂具有式(1)的结构或为具有式(1)结构的物质的盐：

其中R1选自于氢原子、碳原子数为1-99的烷基、苄基、碳原子数为1-99的烯烃基、苯基、碳原子数为1-99的环烷烃基、碳原子数为1-99的环烯烃基、或碳原子数为1-99的杂元环基中的一种；R2选自于碳原子数为1-99的烷基、苄基、碳原子数为1-99的烯烃基、苯基、碳原子数为1-99的环烷烃基、碳原子数为1-99的环烯烃基、或碳原子数为1-99的杂元环基中的一种；R1与R2相同或不同。

2.根据权利要求1所述的一种石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的石墨为50目～12000目的天然石墨或膨胀石墨。

3.根据权利要求1所述的一种石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的插层氧化处理是指：将石墨与硝酸类化合物混合后，使用浓硫酸和高锰酸盐进行插层氧化；其中石墨所含的碳与硝酸类化合物、及浓硫酸、及高锰酸盐的物质的量比为：1mol:0.07～0.038mol:5～4.2mol:0.23～0.12mol；其中，所述高锰酸盐选自于高锰酸钾或高锰酸钠中的一种或两种。

4.根据权利要求3所述的一种石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的硝酸类化合物选自于硝酸钠、硝酸钾、硝酸钙、硝酸铜或硝酸铁中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述的一种石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的还原剂具有式(1)的结构或为具有式(1)结构的物质的盐：

其中R1选自于氢原子、苄基、苯基、或碳原子数为1-3的烷基中的一种；R2选自于苄基、苯基、或碳原子数为1-3的烷基中的一种；R1与R2相同或不同。

6.根据权利要求5所述的一种石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的还原剂选自于对羟基二苯胺、4-(苄基氨基)苯酚、4-(甲氨基)苯酚、或4-(甲氨基)苯酚硫酸盐中的一种或几种。

7.根据权利要求1所述的一种石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的还原是指，在氧化石墨分散液中加入还原剂，还原剂与氧化石墨的质量比为100～1：1。