[发明专利]用于使用粒子光学设备来确定重构图像的方法

权利要求书

1.一种用于使用粒子光学设备来确定重构图像的方法，该粒子光学设备包括：

· 粒子源（101），其用于产生一束粒子，

· 对象平面，可以在其上面放置要成像的对象（111），

· 聚光器系统（104），其用于用该束粒子照亮对象平面，

· 投影系统（106），其用于通过在图像平面上对通过所述对象透射的粒子进行成像来形成对象平面的图像，以及

· 检测器（150），其用于检测（50）图像，该检测器包括具有像素阵列的半导体传感器，其用于响应于入射在检测器上的粒子从阵列的各像素提供多个像素信号，

该方法包括：

· 接收（60）所述多个像素信号，以及

· 通过对所述多个像素信号使用维特比检测来确定（70）重构图像，

     维特比检测使用与入射在检测器上的粒子的多个配置相对应的多个不同状态，以及

     所述多个不同状态中的至少两个状态对应于所述多个像素信号的单个像素上的入射粒子的相同、非零多重度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，使用粒子的不同多重度对不同状态进行建模。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，使用所述粒子的不同沉积能量对不同状态进行建模。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，在对所述粒子的沉积能量进行建模时使用不同的点扩展函数对不同状态进行建模。

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的方法，其中，在维特比检测的不同迭代中使用不同的状态。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的方法，其中，所述像素阵列是一维阵列。

7.根据权利要求1～5中的任一项所述的方法，其中，所述像素阵列是二维阵列且所述维特比检测被应用于二维阵列的每行像素的像素信号序列。

8.根据权利要求1～5中的任一项所述的方法，其中，所述像素阵列是二维阵列且所述维特比检测被应用于二维阵列的每列像素的像素信号序列。

9.根据权利要求7～8中的任一项所述的方法，其中，所述维特比检测的状态对应于入射在检测器上的粒子的预定二维配置。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，还包括在已检测到像素上的一个或多个入射粒子之后从所述多个像素信号去除来自所检测的一个或多个入射粒子的贡献。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，由检测器检测的图像包括在每个像素0.0001～0.5、优选地0.001～0.3、甚至更优选地0.01～0.1粒子范围内的剂量。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，该方法包括：

· 在检测对象的第一图像时响应于入射在检测器上的粒子从阵列的各像素接收（61）第一多个像素信号，

· 通过对第一多个像素信号使用维特比检测来确定（71）第一重构图像，

· 在检测对象的第二图像时响应于入射在检测器上的粒子从阵列的各像素接收（62）第二多个像素信号，

· 通过对第二多个像素信号使用维特比检测来确定（72）第二重构图像，以及

· 将第一重构图像和第二重构图像组合（80）以形成重构图像。

13.根据权利要求1～12中的任一项所述的方法，还包括：

· 产生（10）一束粒子，

· 将要成像的对象（111）放置（20）在对象平面上，

· 用该束粒子照亮（30）对象平面，

· 通过在图像平面上对通过对象透射的粒子进行成像来形成（40）对象平面的图像，以及

· 用包括半导体传感器的检测器来检测（50）图像并响应于入射在检测器上的粒子从阵列的各像素提供多个像素信号。