[发明专利]电感耦合等离子体处理装置

权利要求书

1.一种电感耦合等离子体处理装置，其在处理室内的等离子体生成区域产生电感耦合等离子体，来对基板进行等离子体处理，所述电感耦合等离子体处理装置的特征在于，具备：

用于在使所述等离子体生成区域产生所述电感耦合等离子体的高频天线；以及

被配置在所述等离子体生成区域与所述高频天线之间的金属窗，

所述金属窗被进行第一分割、并且被进行第二分割，

所谓所述第一分割，将所述金属窗沿该金属窗的周向相互电绝缘地分割成两个以上，

所谓所述第二分割，将被进行了所述第一分割后的金属窗沿与所述周向交叉的方向相互电绝缘地分割。

2.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述第二分割的分割数按被进行了所述第一分割后的金属窗而被决定，越靠近所述金属窗的周边部分被分割得越多。

3.根据权利要求2所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

被进行了所述第一分割以及所述第二分割后的所述金属窗的尺寸比向所述高频天线供给的高频电力的波长的四分之一小。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述高频天线与被进行了所述第一分割后的金属窗分别对应而设置。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述高频天线的平面形状为旋涡状或环状，

所述第一分割是指，沿从所述旋涡状或环状的高频天线的中心向所述金属窗的周边部分放射状地延伸的线而进行的分割。

6.根据权利要求5所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述金属窗的平面形状的外形为矩形，

向所述金属窗的周边部分放射状地延伸的线为所述金属窗的平面形状的外形的对角线。

7.一种电感耦合等离子体处理装置，其在处理室内的等离子体生成区域产生电感耦合等离子体，来对基板进行等离子体处理，所述电感耦合等离子体处理装置的特征在于，具备：

用于在所述等离子体生成区域产生所述电感耦合等离子体的高频天线；以及

被配置在所述等离子体生成区域与所述高频天线之间的金属窗，

所述金属窗沿与该金属窗的周向交叉的方向被分割、并且沿与所述周向交叉的方向被分割后的金属窗被进行第一划分，

所谓所述第一划分，利用设置于该金属窗的狭缝，将沿与所述周向交叉的方向被分割后的金属窗沿所述周向划分成两个以上的区域。

8.根据权利要求7所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

被进行了所述第一划分后的区域被进行第二划分，

所谓所述第二划分，利用设置于所述金属窗的狭缝，将被进行了所述第一划分后的区域沿与所述周向交叉的方向进一步划分。

9.根据权利要求8所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述第二划分的划分数按被进行了所述第一划分后的金属窗而被决定，越靠近所述金属窗的周边部分的区域被划分得越多。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述高频天线与被进行了所述第一划分后的区域分别对应而设置。

11.根据权利要求8至10中任一项所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

被进行了所述第一划分以及所述第二划分后的区域的尺寸比向所述高频天线供给的高频电力的波长的四分之一小。

12.根据权利要求7至11中任一项所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

在所述狭缝内设置有绝缘体。

13.根据权利要求7至12中任一项所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述高频天线的平面形状为旋涡状或环状，

沿与所述周向交叉的方向的所述金属窗的分割是指，沿从所述旋涡状或环状的高频天线的中心向所述金属窗的周边部分放射状地延伸的线而进行的分割。

14.根据权利要求13所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述金属窗的平面形状为矩形，

向所述金属窗的周边部分放射状地延伸的线为所述金属窗的对角线。