[发明专利]一种PVD超黑涂层无效
| 申请号： | 201210101801.8 | 申请日： | 2012-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN102628156A | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 张笑;朱宏辉 | 申请（专利权）人： | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/22 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 马家骏 |
| 地址： | 201107 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 pvd 涂层 | ||
【权利要求书】：
1.一种PVD超黑涂层，在基体上依次有如下膜层：
厚度为0.05-0.15um的金属膜层；
厚度为0.05-0.15um的磁控溅射复合层；
厚度为0.10-0.20um的衔接底层涂层；
厚度为0.20-1.00um的金属化合物过渡层；
厚度为0.20-0.50um的化合面层。
2.如权利要求1所述的PVD超黑涂层，其特征在于，所述的基体为金属材料，如铁、铁合金、铝、铝合金、锌、锌合金、不锈钢或铜等材质。
3.如权利要求1所述的PVD超黑涂层，其特征在于，所述的金属膜层采用Ti、Cr、不锈钢等材料中的一种或几种。
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