[发明专利]一种晶体偏角度加工的定向料台有效

专利信息
申请号: 201210094283.1 申请日: 2012-04-01
公开(公告)号: CN102615721A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 李闯;吴星;倪代秦;李旭明;贾海涛;高鹏成;张世杰 申请(专利权)人: 北京华进创威电子有限公司
主分类号: B28D5/00 分类号: B28D5/00;B28D7/00
代理公司: 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 代理人: 夏晏平
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶体 偏角 加工 定向
【权利要求书】:

1.一种晶体偏角度加工的定向料台,其特征在于:包括底座、调整板、垂直旋转靶、水平旋转靶、固定转盘螺丝,

底盘上部安装支架、止退板,支架位于底盘一端,水平旋转靶安装在支架上,

水平旋转靶包括调节钮、调节螺杆和移位螺钉,调节螺杆与移位螺钉螺纹连接;

止退板上安装有调整板,止退板与调整板通过设置在远离支架一端的转动轴连接,调整板靠近支架一端与水平旋转靶的移位螺钉下端转动连接,调整板位于支架内侧的部位设有以弧形上下通槽,并通过设置槽内的锁紧螺钉与止退板保持紧固;

调整板的通槽与转动轴之间靠近通槽部位竖直设置有立板,立板上靠转动轴一侧设有旋转台,旋转台上有刻度盘,旋转台一侧安装有垂直旋转靶,相对的另一侧安装有固定转盘螺丝,

旋转台连接连接架,连接架与位于远离支架一端设置的夹紧件相对。

2.根据权利要求1所述的一种晶体偏角度加工的定向料台,其特征在于:刻度盘为360度刻度盘。

3.根据权利要求1所述的一种晶体偏角度加工的定向料台,其特征在于:夹紧件固定于机架。

4.根据权利要求1所述的一种晶体偏角度加工的定向料台,其特征在于:所能加工的晶体厚度可以是0.1mm-100mm,晶体直径可以是2吋-4吋,晶体角度可以是0°、4°或8°。

5.根据权利要求1所述的一种晶体偏角度加工的定向料台,其特征在于:所加工晶体只能是碳化硅或蓝宝石。

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