[发明专利]光学记录媒体以及记录材料

权利要求书

1.一种用于光学记录媒体的记录材料，其特征在于，该记录材料的组成的化学式为Bi_xGe_yO_(1-x-y)，且该记录材料的一光学性质因一激光照射而改变，其中该化学式的x及y分别表示铋及锗的原子数比，且满足以下数学式：

2.8≤(x/y)≤25以及0.55≤(1-x-y)＜0.62。

2.根据权利要求1所述的用于光学记录媒体的记录材料，其特征在于，该记录材料的消光系数为小于或等于0.3。

3.根据权利要求1所述的用于光学记录媒体的记录材料，其特征在于，该记录材料的折射率为约2.5至约3。

4.根据权利要求1所述的用于光学记录媒体的记录材料，其特征在于，该化学式的x及y满足以下数学式：0.2≤x≤0.4以及0.01≤y≤0.15。

5.一种光学记录媒体，其特征在于，包含：

一基材；以及

一记录层，配置于该基材上方，其中该记录层的消光系数小于或等于0.3，且包含以化学式Bi_xGe_yO_(1-x-y)表示的一材料，其中x及y分别表示铋及锗的原子数比，且x及y满足以下数学式：2.8≤(x/y)≤25以及0.55≤(1-x-y)＜0.62。

6.根据权利要求5所述的光学记录媒体，其特征在于，还包含一介电层接触该记录层，其中该介电层的折射率为约2.0至约2.5，且该记录层的折射率为约2.5至约3.0。

7.根据权利要求5所述的光学记录媒体，其特征在于，x及y满足以下数学式：0.2≤x≤0.4以及0.01≤y≤0.15。

8.一种光学记录媒体，其特征在于，包含：

一基材；

一第一保护层，配置于该基材上；

一第二保护层，配置于该第一保护层上方；

一介电层，位于该第一及该第二保护层之间，且该介电层的折射率为约2.0至约2.5；以及

一记录层接触该介电层，且该记录层的折射率为约2.5至约3.0，其中该记录层包含以化学式Bi_xGe_yO_(1-x-y)表示的一材料，其中x及y分别表示铋及锗的原子数比，且x及y满足以下数学式：2.8≤(x/y)≤25以及0.55≤(1-x-y)＜0.62。

9.根据权利要求8所述的光学记录媒体，其特征在于，该第一及该第二保护层各自的折射率为约2.0至约2.7。

10.根据权利要求8所述的光学记录媒体，其特征在于，该记录层的折射率与该介电层的折射率的差异为约0.25至约0.55。

11.根据权利要求8所述的光学记录媒体，其特征在于，至少一该第一及第二保护层包含至少一材料，是选自硫化锌、二氧化硅、氧化铬、二氧化锆、二氧化钛、五氧化二铌、五氧化二钽、氧化铟、氧化锌、二氧化锡、二氧化铈以及氧化铝所组成的群组。

12.根据权利要求8所述的光学记录媒体，其特征在于，该介电层包含一材料是选自硫化锌、二氧化硅、氧化铬、二氧化锆、二氧化钛、五氧化二铌、五氧化二钽、氧化铟、氧化锌、二氧化锡、二氧化铈以及氧化铝所组成的群组。

13.根据权利要求8所述的光学记录媒体，其特征在于，该介电层的厚度为约30nm至约40nm。

14.根据权利要求8所述的光学记录媒体，其特征在于，该记录层的厚度为约15nm至约30nm。