[发明专利]具有废液室的喷墨记录装置有效

专利信息
申请号: 201210088673.8 申请日: 2012-03-29
公开(公告)号: CN102991137B 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 村木基人 申请(专利权)人: 兄弟工业株式会社
主分类号: B41J2/17 分类号: B41J2/17;B41J2/175
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 黄刚;车文
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 具有 废液 喷墨 记录 装置
【权利要求书】:

1.一种喷墨记录装置,包括:

记录头,所述记录头具有喷嘴表面,所述喷嘴表面形成有喷嘴, 从所述喷嘴喷射墨滴,以将图像形成到记录介质上;

泵,所述泵被构造成从所述记录头吸引墨;

废液室,所述废液室被构造成容纳由所述泵吸引的所述墨;以及

第一支撑件,所述第一支撑件被构造成将所述废液室支撑在所述 喷嘴表面的上方的位置处,

其中所述第一支撑件包括旋转支撑单元,所述旋转支撑单元被构 造成将所述废液室以可枢转的方式支撑在第一姿态与第二姿态之间, 在所述第一姿态中所述废液室能够覆盖所述记录头,在所述第二姿态 中所述记录头的上部暴露在外部。

2.根据权利要求1所述的喷墨记录装置,其中所述第一支撑件被 构造成支撑所述废液室,使得所述废液室的至少一部分与所述记录头 面对。

3.根据权利要求2所述的喷墨记录装置,其中所述废液室的所述 至少一部分在平面图中与所述记录头重叠。

4.根据权利要求1所述的喷墨记录装置,还包括:

滑架,在所述滑架上安装所述记录头,所述滑架能够沿着所述记 录介质移动并能够移动至缩回位置,在所述缩回位置处所述滑架没有 与所述记录介质面对;以及

盖,当所述滑架移动至所述缩回位置时,所述盖与所述喷嘴表面 面对地设置,所述盖能够在第三姿态与第四姿态之间移动,在所述第 三姿态中所述盖覆盖所述喷嘴表面,在所述第四姿态中所述盖与所述 喷嘴表面间隔开;

其中所述泵与所述盖流体连通,以从被所述盖覆盖的所述喷嘴吸 引所述墨;

其中所述第一支撑件被构造成支撑所述废液室,使得所述废液室 的至少一部分与已被所述盖覆盖的所述记录头面对。

5.根据权利要求4所述的喷墨记录装置,还包括壳体,所述壳体 限定开放空间,所述滑架在所述开放空间中移动,所述开放空间位于 所述记录介质的通过区域的上方,并且所述开放空间允许所述记录介 质对外部暴露;并且

其中所述第一支撑件被构造成支撑所述废液室,使得所述废液室 不与所述开放空间竖直重叠。

6.根据权利要求1所述的喷墨记录装置,还包括:

滑架,在所述滑架上安装所述记录头,所述滑架能够沿着所述记 录介质移动;以及

第二支撑件,所述第二支撑件被构造成以可移动的方式支撑所述 滑架;

其中所述第一支撑件被构造成支撑所述废液室,使得所述废液室 的至少一部分与所述第二支撑件面对。

7.根据权利要求1所述的喷墨记录装置,其中所述废液室的一端 以可枢转移动的方式连接至所述旋转支撑单元,

所述喷墨记录装置还包括管和连接器,所述管被构造成提供从所 述泵到所述废液室的流体连通,所述连接器设置在所述一端处,并且 所述连接器被构造成将所述管连接至所述废液室。

8.根据权利要求7所述的喷墨记录装置,其中所述旋转支撑单元 具有旋转轴,并且所述喷墨记录装置还包括配管单元,所述配管单元 被构造成引导所述管,使得所述管在与所述旋转轴邻近的位置处通过。

9.根据权利要求7所述的喷墨记录装置,还包括壳体,所述壳体 具有侧表面和底表面,所述侧表面面对所述旋转支撑单元,所述底表 面垂直连接至所述侧表面,

其中所述管沿所述底表面和所述侧表面延伸。

10.根据权利要求1所述的喷墨记录装置,其中所述第一支撑件 包括限制单元,所述限制单元被构造成防止所述废液室从所述第一姿 态朝所述记录头枢转移动。

11.根据权利要求1所述的喷墨记录装置,还包括供墨单元,所 述供墨单元将墨盒以可拆卸的方式接纳到所述供墨单元中,所述墨盒 中容纳墨,所述供墨单元形成有供墨孔,所述供墨孔与所述记录头流 体连通,以将所述墨盒中容纳的所述墨供应到所述记录头,所述废液 室定位成比所述供墨孔高。

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