[发明专利]复合物、取向材料、取向膜以及制备方法和应用无效
申请号: | 201210088514.8 | 申请日: | 2012-03-28 |
公开(公告)号: | CN102659627A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 李会 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C07C255/54 | 分类号: | C07C255/54;C07C253/30;C09K19/56;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭红丽 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合物 取向 材料 以及 制备 方法 应用 | ||
技术领域
本发明涉及一种复合物、取向材料以及由该取向材料形成的取向膜,还涉及该取向膜的制备方法和应用。
背景技术
在液晶面板的制作过程中,通常利用均一排布的取向膜实现对液晶分子的定向,而液晶定向的均一性直接影响着显示器的品质。针对取向膜的取向技术,目前,工业上采用传统的摩擦取向技术和近年来发展起来的非摩擦取向技术。其中,摩擦取向技术是在液晶面板的制作工艺中利用高速旋转的摩擦辊摩擦形成于基板表面的取向膜,从而使取向膜分子沿摩擦方向均一定向排列。摩擦取向技术工艺简单,易于工业化生产。但是,同时也存在以下缺点:在摩擦过程中产生大量的灰尘微粒,对取向膜和器件都会产生不良影响,并且需要后续工艺进行处理,增加了工艺时间和成本;在摩擦过程中产生静电,对TFT-LCD的晶体管会造成击穿;应用于大面积基板时,难以控制摩擦的均匀性等。目前常用的非摩擦取向技术主要是光控取向技术。光控取向技术可以避免由于静电、灰尘所造成的污染,并且可以改善显示器件的视角问题。
已知有一种液晶显示设备的取向层,如图1所示,该取向层由已聚合的反应性液晶元形成,该已聚合的反应性液晶元包括液晶元、在该液晶元的端部处的柔性间隔物,以及在该柔性间隔物的端部处的光反应端基。并且还已知一种制造取向层的方法,该方法包括:在基板上沉积取向材料,该取向材料包括上述反应性液晶元和光引发剂;向该取向材料施加沿预定方向的电场;以及向施加了电场的取向材料施加UV光,以使该光反应端基彼此聚合。但是,当照射UV光时,两端光反应端基随机发生聚合反应,不仅产生主反应的聚合物网络结构,还将发生副反应,导致生成不必要的副产物。该副产物将会影响接触到的液晶,从而导致取向效果不良。
发明内容
为了改善液晶面板的取向效果,本发明提供以下技术方案。
式(1)所示的复合物,
A-B-C-B’-D (1)
其中,A表示光反应端基,所述光反应端基优选为丙烯酸酯基或丙烯酸甲酯基,B、B’相同或不同,表示单键或碳原子数为1~6的直链烷基,例如为己基,C表示烷氧基联苯基、胆固醇的脂肪酸酯基、希夫碱基、偶氮苯基、二苯乙烯基、二苯乙炔基、联苯基、联三苯基,D表示无聚合活性的端基,例如为氰基。
一种取向材料,包含上述式(1)所示的复合物。
本发明还提供一种取向膜,其由上述取向材料形成。
上述取向膜的制备方法包括以下步骤:
在基板上涂布上述取向材料,形成取向膜,然后对所述取向膜施加电场,向所述取向膜照射紫外光。
其中,所述电场的电压值例如为5~15V,所述紫外光的照射强度例如为0.05~3J/cm2。
本发明还提供利用上述取向膜制备得到的液晶面板,以及包括该液晶面板的显示装置。
另外,本发明还涉及上述取向材料在制作液晶面板中的应用
如图2所示,本发明的取向材料的光反应端基发生聚合反应形成一层稳定的聚合物网络结构,聚合物网络结构可以在去掉电场作用后,使取向材料仍能保持设定的预倾角,所以,利用本发明的取向材料制备得到的液晶面板能够有效地改善取向效果。
附图说明
图1是表示用于现有无摩擦取向技术中的取向材料及其反应原理的示意图;
图2是表示本发明的取向材料及其反应原理的示意图;
图3a~图3c是表示液晶面板的制备过程的示意图。符合说明
2.取向层
3.液晶层
4.无聚合活性的端基
5.光反应端基
5’.聚合物网络结构
11.阵列基板
21.彩膜基板
具体实施方式
以下列举具体实施例说明本发明的取向材料的制备方法,但本发明并不限于这些实施例。
实施例1
取向材料的制备
向500mL三口瓶中加入130mL无水乙醇与130mL蒸馏水,并向其中加入0.1mol 4-氰基-4′-羟基联苯和0.2mol 1,6-二溴己烷。在搅拌状态下水浴加热回流。待全部溶解后,向其中缓慢滴加40mL氢氧化钾(0.25mol)的乙醇水溶液(以体积比计,乙醇∶水=1∶1)。滴加结束后,继续反应4小时。停止反应,趁热抽滤,得白色固体,干燥后用1,2-二氯乙烷重结晶,得白色片状晶体即4-氰基-4′-(6-溴己氧基)联苯。
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