[发明专利]用于在衬底上产生层的方法

权利要求书

1.一种用于在衬底上产生层的方法，其中，

将流体(3)作为第一层(5)施加(A)到第一衬底(4)上；

处理所述第一衬底(4)上的所述流体(3)；并且

将所述流体(3)从所述第一衬底(4)上作为第二层(1)传递到第二衬底(2)上；

其特征在于，

所述第一层(5)的流体(3)基本上仅仅在表面附近被处理(B)；

所述第一层(5)的流体(3)被不完全地传递(C)，其中，基本上仅仅传递被处理过的流体(3′)。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述第一层(5)的流体(3)基本上仅仅在所述第一层(5)的层厚度(9)的最上面的25％或最上面的10％或最上面的1％的范围内被处理(B)；

所述第一层(5)的流体(3)的小于25％或小于10％或小于1％被传递(C)。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，

将所述流体(3)作为具有大于1微米或大于10微米的层厚度(7)的第一层(5)施加(A)到第一衬底(4)上；

将所述流体(3′)作为具有小于1微米或小于0.1微米或小于50纳米的层厚度(9)的第二层(1)传递到第二衬底(2)上。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面附近的处理(B)是选自下述处理表的处理：

提高粘度；

硬化；

固化；

结膜，特别是氧化结膜；

聚合，特别是利用UV辐射聚合；

利用反应性气体迎流；

利用反应性液体喷射；

与反应性表面接触；

等离子体处理；

干燥，特别是利用热空气和/或IR辐射干燥；和

结冰，特别是利用冷空气结冰。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面附近的处理(B)全面地进行。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面附近的处理(B)部分面地或结构化地特别是利用激光器进行。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述第一衬底(4)是基本上固态的衬底，特别是辊表面；

所述第二衬底(2)是基本上固态的衬底，特别是辊表面或承印材料。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述第一衬底(4)是基本上液态的衬底，特别是水或水性溶液；

所述流体(3)在所述处理(B)之前基本上是液态的，特别是油基的；

所述第二衬底(2)是基本上固态的衬底，特别是辊表面或承印材料。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将没有传递到所述第二衬底(2)上的流体(3″)从所述第一衬底(4)上去除掉。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将传递的未被处理过的流体(3″)从所述第二衬底(2)上去除掉。