[发明专利]鞋垫

权利要求书

1.一种鞋垫，所述鞋垫具有底面和供脚踩踏的上表面，所述上表面包括后跟区域和用于支撑足弓的足弓支撑区域，其特征在于，所述后跟区域的内侧高度高于外侧高度，所述足弓支撑区域的外侧轮廓线超出中平面，所述中平面为与鞋垫长度方向平行的竖直平面，所述中平面经过所述后跟区域的宽度的1/2处。

2.根据权利要求1所述的鞋垫，其特征在于，所述足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点与所述中平面的距离为0～8mm。

3.根据权利要求1所述的鞋垫，其特征在于，所述后跟区域的内侧高度比外侧高度高0～8mm。

4.根据权利要求1-3任一所述的鞋垫，其特征在于，所述后跟区域与底面的夹角为0～10度。

5.一种鞋垫，所述鞋垫具有底面和供脚踩踏的上表面，所述上表面包括后跟区域和用于支撑足弓的足弓支撑区域，其特征在于，

每一长度尺码的鞋垫包括适于正常足的标准鞋垫C垫和适于外翻足的非标准鞋垫，所述标准鞋垫和非标准鞋垫的后跟区域的宽度相同；

所述非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度高于外侧高度，所述非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线超出中平面，所述中平面为与鞋垫长度方向平行的竖直平面，所述中平面经后跟区域的宽度的1/2处。

6.根据权利要求5所述的鞋垫，其特征在于，所述非标准鞋垫包括B垫，

设：所述B垫的后跟区域的宽度为HW，所述B垫的后跟区域与底面的夹角为BHA，所述B垫的后跟区域的厚度为BHT，所述BHT为B垫的后跟区域的内侧和外侧的高度差，所述B垫的足弓支撑区域的加阔度为BAW，所述BAW为B垫的足弓支撑区域的外侧轮廓顶点与所述中平面之间的距离，所述C垫的足弓支撑区域的加阔度为CAW，所述BAW为B垫的足弓支撑区域的外侧轮廓顶点与所述中平面之间的距离；

则上述采参数满足以下关系：BHT＝HW×tan(BHA)，BAW＝CAW+BHT；

所述BHA为0～5度。

7.根据权利要求6所述的鞋垫，其特征在于，所述非标准鞋垫还包括A垫，

设：所述A垫的后跟区域的宽度为HW，所述A垫的后跟区域与底面的夹角为AHA，所述A垫的后跟区域的厚度为AHT，所述AHT为A垫的后跟区域的内侧和外侧的高度差，所述A垫的足弓支撑区域的加阔度为AAW，所述AAW为A垫的足弓支撑区域的外侧轮廓顶点与所述中平面之间的距离；

则上述采参数满足如下关系：AHT＝HW×tan(AHA)，AAW＝CAW+BHT×2；

所述AHA为5～10度。

8.根据权利要求7所述的鞋垫，其特征在于，设所述C垫的足弓支撑区域的内侧高度为CAH，B垫的足弓支撑区域的内侧高度为BAH，A垫的足弓支撑区域的内侧高度为AAH，则上述参数满足如下关系：BAH＝CAH+BHT，AAH＝CAH+BHT×2。

9.根据权利要求8所述的鞋垫，其特征在于，所述C垫的后跟区域的内侧高度等于外侧高度，所述C垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点位于所述中平面上。

10.根据权利要求5所述的鞋垫，其特征在于，所述非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点与所述中平面的距离为0～8mm；所述非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度比外侧高度高0～8mm；所述非标准鞋垫的所述后跟区域与底面的夹角为0～10度。