[发明专利]平面移动靶机构

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜用溅射靶，具体地说是一种平面移动靶机构。

背景技术

目前，矩形平面磁控溅射靶由于其结构简单，有较高的沉积率、低的基板温度、膜层与基板结合牢固易于大型化和不受基板种类影响等优点在工业镀膜上得到广泛运用，但该系统由于在生产过程中靶面的非均匀剥蚀会降低靶材的利用率（一般利用率在10%-20%），影响镀膜的均匀性，会造成靶的拉弧及中毒，严重影响产品品质及生产周期。新型移动平面靶结构研发，可以将靶材的利用率提高到40%-45%,对提高产品品质及降低产生成本有着重要的意义。

发明内容

本发明的目的是针对矩形平面磁控溅射靶所存在的靶材的利用率低、镀膜均匀性不高问题，提出一种平面移动靶机构；通过磁场的移动使得放电区内电子跑道扩展，靶材利用率可提高到40%-45%。起到节能降本的效果。

本发明的技术方案是：

一种平面移动靶机构，它包括框架、往返传动机构、两直线导轨机构、极靴、永磁铁和位于真空箱体内的阴极和靶材，所述的往返传动机构安装在框架的中部，两直线导轨机构分别安装在框架的上下部分，两直线导轨机构上分别装有至少一个滑块，极靴安装在往返传动机构的中部，极靴的上、下两端分别固定在两直线导轨机构的滑块上，永磁铁安装在极靴上，在永磁铁上方的真空箱体底部安装阴极，靶材安装在阴极的上方。

本发明的阴极为铜背板。

本发明的阴极的内部装有冷却水管。

本发明的滑块为四个，两直线导轨机构上分别安装两个滑块，极靴的四角分别固定在四个滑块上。

本发明的永磁铁为三根，均匀排布在极靴上。

本发明的往返传动机构包括伺服电机和滚珠丝杠，由伺服电机带动固定在滚珠丝杠上的极靴作匀速往返运动。

本发明的有益效果：

本发明通过磁场的移动使得放电区内电子跑道扩展，靶材利用可提高到40%-45%。起到节能降本的效果。

在度膜工艺中，采用本发明的移动靶，可以改善膜层均匀性；有效延长靶材的使用周期。

 

附图说明

图1是本发明的主视结构示意图。

图2是本发明的剖面结构示意图。

图中：1、框架；2、往返传动机构；3、直线导轨机构；4、极靴；

5、永磁铁；6、阴极；7、冷却水管；8、靶材； 9、真空箱体；

10、滑块；11、伺服电机；12、滚珠丝杠。

 

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。

如图1所示，一种平面移动靶机构，它包括框架1、往返传动机构2、两直线导轨机构3、极靴4、永磁铁5和位于真空箱体9内的阴极6和靶材8，所述的往返传动机构2安装在框架1的中部，两直线导轨机构3分别安装在框架1的上下部分，两直线导轨机构3上分别装有至少一个滑块10，极靴4安装在往返传动机构2的中部，极靴4的上、下两端分别固定在两直线导轨机构3的滑块10上，永磁铁5安装在极靴4上，在永磁铁5上方的真空箱体9底部安装阴极6，靶材8安装在阴极6的上方。

本发明的阴极6为铜背板；阴极6的内部装有冷却水管7，进行阴极冷却，防止设备过热损坏。

如图2所示，本发明的滑块10为四个，、两直线导轨机构3上分别安装两个滑块10，极靴4的四角分别固定在四个滑块10上。

本发明的永磁铁5为三根，均匀排布在极靴4上。

本发明的往返传动机构2包括伺服电机11和滚珠丝杠12，由伺服电机11带动固定在滚珠丝杠12上的极靴作匀速往返运动。

本发明的阴极水冷直接做到靶所绑定的铜背板里，磁铁均匀排布在极靴纯铁板上，在平行于靶面的方向用直线导轨固定纯铁板，利用伺服电机的往复运动带动固定在纯铁板上的滚珠丝杠作匀速往返运动。

本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。