[发明专利]基片架磁定位系统无效
申请号: | 201210067355.3 | 申请日: | 2012-03-14 |
公开(公告)号: | CN102586751A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 朱殿荣;曹俊 | 申请(专利权)人: | 无锡康力电子有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/34 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 夏平 |
地址: | 214253 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基片架磁 定位 系统 | ||
技术领域
本发明涉及真空镀膜领域,尤其是ITO 玻璃真空镀膜行业中基片架的传动定位结构,具体地说是一种基片架磁定位系统。
背景技术
目前,传统的基片架是以齿条传动为主,如图1所示,基片架顶部悬空,基片架装载玻璃在真空室里运行时,由于顶部无定位以及受炉体温度的影响,在运行过程中出现摇晃及刮擦,造成玻璃基片的破损及掉落,使得整个系统不能正常运行,必须停机处理,对产品的品质及系统的稳定性带来诸多的影响。
发明内容
本发明的目的是针对真空镀膜中,传统的基片架采用齿条传动所存在的问题,提出一种基片架磁定位系统。该系统是利用磁铁异性相吸的原理,通过上下磁场的相互作用使得基片架能按其规定的轨迹运行。
本发明的技术方案是:
一种基片架磁定位系统,它包括真空箱体以及位于箱体内部的传动机构、磁悬浮定位机构、中心加热器、两溅射靶和多组基片架,所述的中心加热器安装在真空箱体的中部,两溅射靶分别安装在真空箱体的两侧壁上,中心加热器与两溅射靶之间的传动轨迹上安装多组基片架,各组基片架的底部安装在传动机构上,各组基片架的顶部安装磁悬浮定位机构,所述的磁悬浮定位机构包括成对设置的多组磁铁,按照基片架的运行轨迹在真空箱体的顶部按同一极性排布多个磁铁,在对应基片架的顶部按照与前述磁铁极性相反的排布多个磁铁。
本发明的多组基片架均为不锈钢支架。
本发明的传动机构包括多组U型摩擦传动轮,各组U型摩擦传动轮上分别夹装两基片架。
本发明的磁悬浮定位机构包括成对设置的多组磁铁,安装在基片架上的磁铁与安装在真空箱体的顶部的磁铁的间隙是3-7mm。
本发明的安装在基片架上的磁铁与安装在真空箱体的顶部的磁铁均采用50×20×10的矩形磁铁串联组合成长条形磁铁。
本发明的安装在真空箱体的顶部的磁铁是按朝上S朝下N,安装在基片架上的磁铁是朝上S朝下N排列。
本发明的有益效果:
本发明由于通过磁场的相互吸引达到定位的目的,基片架在运行过程中与定位系统无机械接触,无摩擦,不产生污染,使用寿命长,不需要过多维护,通过该系统的安装,基片架运行稳定性得以提高,不再有碎片掉片现象,对产品的产质量都有大幅度提高。
附图说明
图1是本发明的传统的基片架定位及传动结构的示意图。
图2是本发明的结构示意图。
图中:1、真空箱体;2、U型摩擦传动轮;3、磁悬浮定位机构;
4、中心加热器;5、溅射靶;6、基片架;7、齿条传动机构。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
如图1所示,一种基片架磁定位系统,它包括真空箱体1以及位于箱体内部的传动机构、磁悬浮定位机构3、中心加热器4、两溅射靶5和多组基片架6,所述的中心加热器4安装在真空箱体1的中部,两溅射靶5分别安装在真空箱体1的两侧壁上,中心加热器4与两溅射靶5之间的传动轨迹上安装多组基片架6,各组基片架6的底部安装在传动机构上,各组基片架6的顶部安装磁悬浮定位机构3,所述的磁悬浮定位机构3包括成对设置的多组磁铁,按照基片架6的运行轨迹在真空箱体1的顶部按同一极性排布多个磁铁,在对应基片架6的顶部按照与前述磁铁极性相反的排布多个磁铁。所述的安装在基片架6上的磁铁与安装在真空箱体1的顶部的磁铁均采用50×20×10的矩形磁铁串联组合成长条形磁铁。如图1所示,安装在真空箱体1的顶部的磁铁是按朝上S朝下N,安装在基片架6上的磁铁是朝上S朝下N排列,安装在基片架6上的磁铁与安装在真空箱体1的顶部的磁铁的间隙是3-7mm。
本发明的多组基片架6均为不锈钢支架。
本发明的传动机构包括多组U型摩擦传动轮2,各组U型摩擦传动轮2上分别夹装两基片架6。
该系统是利用磁铁异性相吸的原理,通过上下磁场的相互作用使得基片架能按其规定的轨迹运行。上部磁铁按同一极性排列在不锈钢支架内,并按照基片架运行轨迹固定在真空室顶部,底部磁铁按相反极性排布在不锈钢支架内,用耐高温陶瓷作为支撑座固定在基片架顶部,定位系统选用耐高温磁材钕铁硼N35AH,上下磁铁间隙调整在5mm±2的范围内。
本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
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