[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池缓冲层材料的制备方法无效
申请号: | 201210050285.0 | 申请日: | 2012-02-29 |
公开(公告)号: | CN102544237A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 魏爱香;刘军;赵湘辉;招瑜;刘俊 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 林丽明 |
地址: | 510006 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 缓冲 材料 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于薄膜太阳能电池关键材料的制备技术,具体涉及一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池缓冲层材料的制备方法。
背景技术
铜铟镓硒【Cu(In1-xGax)Se2,简称CIGS】薄膜太阳能电池的典型结构是由玻璃衬底、钼(Mo)背电极层、CIGS吸收层、缓冲层、窗口层、铝电极、氟化镁(MgF2)减反射层组成。光从透明电极入射,经过减反膜、窗口层、缓冲层到达吸收层被吸收,产生光生载流子。薄膜太阳能电池的缓冲层材料目前主要用硫化镉(CdS)半导体材料,缓冲层的主要作用是:
1.结构过渡缓冲,减少晶格失配度。纤锌矿体系的CdS与黄铜矿结构的CIGS半导体材料具有良好的晶格匹配;
2. CdS的禁带宽度2.4eV,透光性较好,光通过缓冲层损失较少;
3.保护吸收层,避免随后溅射氧化锌(ZnO)窗口层时造成对CIGS吸收层的损害;
目前,以化学水浴法制备的CdS半导体薄膜作为缓冲层的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的效率最高达到19.9%。但是目前使用的CdS薄膜中含高污染金属Cd,电池生产过程中含镉的废水处理以及报废电池中镉的回收比较困难,都将造成对环境的污染。另一方面,CdS薄膜的禁带宽度只有2.4eV,不利于CIGS/CdS薄膜太阳能电池对太阳光短波波段的响应。所以CdS缓冲层的应用将越来越制约CIGS薄膜太阳能电池的大规模生产和应用。因此,研究不含镉的、有利于批量生产的新型绿色缓冲层材料代替CdS,是铜铟镓硒薄膜太阳能电池发展的必然趋势。ZnS,In2S3,ZnSe,SnO2,ZnIn2Se4等被作为CIGS薄膜太阳电池的新型缓冲层材料,正在被研究开发,应用于绿色无镉高效CIGS薄膜太阳电池。
- 族直接带隙半导体化合物ZnS,在常温下带隙为3.7 eV,组成元素无毒且储量丰富。目前ZnS薄膜的制备方法主要有电化学沉积、化学浴沉积 ( CBD )、真空蒸发法、激光脉冲法、分子束外延(MBE )等。物理气相法制备ZnS缓冲层与吸收层的制备方法兼容,有利于CIGS薄膜太阳电池生产线的建立,缺点是物理气相法制备ZnS不能很好的均匀覆盖CIGS吸收层;化学浴沉积法是制备CIGS薄膜太阳电池缓冲层最有效的方法,其优点是:
(1) 化学浴法沉积的缓冲层能很好地均匀覆盖CIGS吸收层。
(2) 化学浴法制备的ZnS薄膜是一种天然n型半导体材料,不需要特意进行掺杂来获得。
(3) 工艺简单有效、成本低、设备简单,不要求真空沉积系统,温度较低。
(4) 生成的半导体薄膜质量高,均匀致密。
(5) 易实现大规模生长,具有广阔的应用前景。
与化学浴沉积 CdS相比,化学浴沉积制备ZnS反应速度慢。在碱性条件下,ZnS化学浴沉积过程中同时伴随Zn(OH)2的产生,在干燥过程中Zn(OH)2脱水生成ZnO,所以一般把化学浴制备的ZnS写作Zn(O,S)薄膜,这种薄膜具有和CdS相似的特点,禁带宽度比CdS更宽,用它替代CdS作为铜铟镓硒薄膜电池的缓冲层,可以提高电池的短波响应,让更多高能的光子收集在电极上,从而改善短路电流,并且它对环境无害,是一种的较为理想的缓冲层材料。
发明内容
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的