[发明专利]一种陶瓷生胚烧结的辅助装置

说明书

【技术领域】

本发明涉及陶瓷领域，尤其涉及陶瓷生胚烧结过程中的辅助装置。

【背景技术】

在制备陶瓷片的过程中，陶瓷生胚需经过高温烧结致密，形成最接近理论密度的熟陶瓷。烧结的过程，是从室温开始升温至烧结温度，期间需要在有机添加剂分解的温度保温若干时间，以及控制升温速度来排出添加剂，然后逐渐升温至所需温度，再保温特定时间后完成烧结。在此过程里，陶瓷生胚收缩以致密，但容易由于烧结炉温度场不均匀、上下层同质或异质陶瓷层的收缩特性相差较大、陶瓷生片成型密度在各方向的不均一或陶瓷生片内残余不均匀的应力等原因，引起陶瓷在烧结过程中的翘曲状况，陶瓷片一旦出现较大的翘曲，则不能成为合格产品。

目前对于防翘曲的方法主要集中在粉料的处理、陶瓷生胚成型条件上，不同的成型方法使用不同的改善方法。对于干压成型来说，提高原料地纯度、更均匀地混合粉料、更均匀地进行球磨和增加造粒过程，使排胶更稳定地进行以减少对收缩的影响。对于流延成型来说，此种陶瓷生胚含溶剂、添加剂较多，具有较大的收缩率，更容易发生翘曲状况。而目前应对翘曲的方法却是在使用受缚烧结技术时一同解决，通常是使用一种在烧结过程不会收缩的板块上下夹着陶瓷生胚片，但此种方法也易使陶瓷开裂。所以，目前的解决方法不可控因素多、控制工艺繁复以及效果不稳定。

【发明内容】

本发明所要解决的技术问题是：提供一种陶瓷生胚在低温烧结过程中防翘曲、断裂的辅助装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种陶瓷生胚烧结的辅助装置，所述装置包括支架和滚珠，所述支架包括底座和与所述底座相连的上筛板和下筛板，所述滚珠可滚动地贯穿在所述上筛板和下筛板的筛孔内，陶瓷生胚放置在所述上筛板和下筛板之间，所述滚珠与所述陶瓷生胚的上、下表面相接触。

所述装置还包括覆盖在所述上筛板滚珠的盖板。

进一步改进，所述盖板的重量按实际需求而定。

所述上筛板优选在所述上筛板滚珠的赤道平面下方。

所述下筛板距离所述底座底部的高度优选为所述滚珠的半径。

所述滚珠的直径为0.5～1mm。

所述筛孔的直径比所述滚珠的直径大0.1～0.5mm，所述筛孔的孔间距为2～5mm。

所述筛孔区域的面积大于所述陶瓷生胚的面积。

所述的支架、滚珠和盖板由金属材料制成。

进一步改进，所述金属材料具有耐高温、不易变形和膨胀系数小的特性。

所述金属材料优选为氧化锆、氧化铝或铸钢。

实施本发明具有以下有益效果：陶瓷生胚上、下面都与若干滚珠点与点可滚动地相接触，采用滚珠减少了与陶瓷生胚表面的摩擦力，在上筛板的滚珠上也可覆盖一盖板，在烧结过程中，由于滚珠的滚动可以让陶瓷生胚毫无受缚地进行收缩，并且各个方向都会一起收缩且均匀、不会翘曲，滚珠上的盖板也是防止陶瓷生胚在烧结过程中翘曲，整个辅助装置也防止了如果整个板压在陶瓷生胚上烧结使陶瓷生胚出现断裂的情况。

【附图说明】

图1为本发明的立体图。

【具体实施方式】

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

如图1所示，一种陶瓷生胚烧结的辅助装置，该装置包括支架1、滚珠4及盖板7，所述支架1包括底座1.1和与所述底座1.1相连的上筛板2和下筛板3，上筛板2和下筛板3上都设置有整齐排列的筛孔5，滚珠4可滚动地贯穿在这些筛孔5内，盖板7覆盖在上筛板2滚珠4上，陶瓷生胚6放置在上筛板2和下筛板3之间，滚珠4与陶瓷生胚6的上、下表面相接触；滚珠4的直径为0.5～1mm，滚珠的直径很小，是为了实现滚珠4与陶瓷生胚6的点与点的接触，从而减少相互间的摩擦，并且筛孔5的直径比滚珠4的直径大0.1～0.5mm，从而可让滚珠4在筛孔5内自由滚动，筛孔5的孔间距设置为2～5mm，使陶瓷生胚上、下表面布满足够多的滚珠。

为了陶瓷生胚6边缘也有滚珠4，筛孔5区域的面积应尽量大于所述陶瓷生胚6的面积；但有时为了重复利用这些装置，可能陶瓷生胚6的面积过大使得筛孔5区域的面积比陶瓷生胚6的面积小，即使是这种情况，筛孔5区域面积也不能小于陶瓷生胚6面积的四分之一，这样是为了使陶瓷生胚表面更充分的接触滚珠，防止烧结过程中陶瓷生胚边缘产生翘曲。