[发明专利]一种微生物聚集体或土壤样品预处理及空间结构分析方法

权利要求书

1.一种微生物聚集体或土壤样品预处理及空间结构分析方法，包括如下步骤：

1)对微生物聚集体或土壤样品进行清洗；

2)对清洗后的微生物聚集体或土壤样品进行冷冻脱水干燥；

3)将脱水后的微生物聚集体或土壤样品放入模具，加入树脂和固化剂，并抽真空，放置至凝固，完成微生物聚集体或土壤样品的固定；

4)将步骤3)得到的含有微生物聚集体或土壤样品的模块放入磨抛机进行磨抛得到样品不同垂直高度的剖面。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，任选进行：

5)对磨抛得到的样品剖面进行扫描电镜分析和能谱分析。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述步骤1)用磷酸盐缓冲液清洗微生物聚集体或土壤样品表面的杂质。

4.如权利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，所述步骤2)用冷冻干燥机对清洗后的微生物聚集体或土壤样品进行冷冻脱水干燥。

5.如权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于，步骤3)所述树脂为环氧树脂；所述环氧树脂为正丁基缩水甘油醚、丙烯酸酯、双缩水甘油酯三者的混合物；

所述固化剂为三亚乙基四胺、聚氧化丙基二胺、壬基苯酚三者的混合物；

所述树脂与固化剂按1∶1～6∶1混合搅拌均匀后倒入模具，两者比例优选2∶1～4.5∶1；进一步优选5∶2。

6.如权利要求1-5之一所述的方法，其特征在于，所述微生物聚集体包括废水处理中的厌氧颗粒污泥、好氧颗粒污泥、絮状污泥、生物膜。

7.如权利要求1-6之一所述的方法，其特征在于步骤3)中所述的模具是与步骤4)中所述的磨抛机配套的模具。

8.如权利要求1-7之一所述的方法，其特征在于，步骤4)中所述的磨抛是通过设定磨抛过程参数得到光滑的目标样品剖面，从而进行观测得到剖面信息。

9.如权利要求1-8之一所述的方法，其特征在于，步骤5)通过扫描电镜分析样品剖面的二维图像信息，并通过能谱分析样品的剖面元素组成及分布信息。