[发明专利]一种亚微米级单相氮化硅粉体的合成方法有效

专利信息
申请号: 201210045285.1 申请日: 2012-02-27
公开(公告)号: CN102556986A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 郑治祥;姜坤 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C01B21/068 分类号: C01B21/068
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生
地址: 230009 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 微米 单相 氮化 硅粉体 合成 方法
【权利要求书】:

1.一种亚微米级单相氮化硅粉体的合成方法,包括前驱体的制备、高温氮化以及后处理各单元过程,其特征在于:

所述前驱体的制备是以水玻璃为硅源,常温下将质量浓度20-50%氯化铵溶液搅拌加入质量浓度为10-30%水玻璃溶液中得到硅酸凝胶,氯化铵溶液的体积为水玻璃溶液体积的1/6-1/4,向硅酸凝胶中加水稀释后过滤,随后加入炭黑,碳硅摩尔比为2-4.5∶1,混合均匀后于60℃干燥得到前驱体;

所述高温氮化是将前驱体在氮气气氛中于1300-1450℃保温3-10小时得到粗产品;

所述后处理是将粗产品于650℃热处理4-6小时得到亚微米级单相α-Si3N4粉体。

2.根据权利要求1所述的合成方法,其特征在于:高温氮化时氮气的流量为0.5-2.0L/min。

3.根据权利要求1所述的合成方法,其特征在于:加入炭黑混合时采用湿混的方法,以蒸馏水为介质。

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