[发明专利]一种H形微纳米光纤表面等离激元传感器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210043679.3 申请日: 2012-02-24
公开(公告)号: CN102607607A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 闫海涛;巩晓阳;赵晓艳;甄志强;夏立新;李立本 申请(专利权)人: 河南科技大学
主分类号: G01D5/26 分类号: G01D5/26;B81B7/00;B81C1/00
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 李宗虎
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 光纤 表面 离激元 传感器 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光纤传感器,具体涉及一种H形微纳米光纤表面等离激元传感器及其制备方法。

背景技术

近年来,传感器在朝着灵敏、精确、适应性强、小巧和智能化的方向发展。光纤具有很多优异的性能,例如:抗电磁干扰和原子辐射的性能,径细、质软、重量轻的机械性能;绝缘、无感应的电气性能;耐水、耐高温、耐腐蚀的化学性能等,它能够在人达不到的地方,或者对人有害的地区,起到人的耳目的作用,而且还能超越人的生理界限,接收人的感官所感受不到的外界信息。

光纤传感器的基本工作原理是将来自光源的光经过光纤送入调制器,使待测参数与进入调制区的光相互作用后,导致光的光学性质,如光的强度、波长、频率、相位、偏正态等发生变化,称为被调制的信号光,在经过光纤送入光探测器,经解调后,获得被测参数。

基于表面等离激元光纤传感器是最近出现的新型传感器,设计表面等离激元激发的结构,产生表面等离激元的激发,因其对外部折射率的变化非常敏感,因此在生物化学方面的传感得到了高度的关注。

发明内容

本发明的目的是为解决上述技术问题的不足,提供一种H形微纳米光纤表面等离激元传感器及其制备方法,将普通单模光纤研磨成H形,提供一种光纤中光波的偏振状态,并在H形侧面镀金属薄膜,成为表面等离激元激发结构,是一种紧凑、简易的光纤传感器。

本发明为解决上述技术问题的不足,所采用的技术方案是:一种H形微纳米光纤表面等离激元传感器,所述传感器包括玻璃套管和封装在玻璃套管内的H形微纳米光纤,所述H形微纳米光纤由单模光纤加工而成,在光纤的圆周面上,沿垂直于光纤轴向的方向对称设有两个凹槽,构成上、下对称敞口的双凹槽结构,凹槽的槽底与光纤纤芯的外表面相切,并且在上、下两个凹槽的槽底均镀有金属薄膜。

所述金属薄膜为金、银、铝或铂金属薄膜。

一种H形微纳米光纤表面等离激元传感器的制备方法,包括如下步骤:

(1)、光纤腐蚀处理:用氢氟酸溶液、氟化铵和水配制氢氟酸缓冲溶液,取单模光纤对其圆周面上对称的两侧进行腐蚀处理,腐蚀深度使内腐蚀平面距离纤芯20μm处,两侧的内腐蚀平面相互平行,腐蚀宽度为246.8μm;

其中,氢氟酸缓冲溶液的配比为按质量比氢氟酸溶液:氟化铵: 水=3:7:10;

(2)、H形微纳米光纤成形处理:将经过氢氟酸缓冲溶液腐蚀过的光纤固定在夹具上,使用研磨机对光纤腐蚀过的两个侧面进行研磨和抛光,在光纤的表面形成两个沿垂直于光纤轴向方向设置的凹槽,构成具有上、下对称敞口的双凹槽结构,两个凹槽的槽底相互平行,研磨深度使凹槽的槽底与光纤纤芯的外表面相切,凹槽宽度为246.8μm;

(3)、金属镀膜处理:在H形微纳米光纤的上、下凹槽的槽底上采用磁控溅射的方法沉积金属薄膜,其中金属薄膜厚度为30~100nm;

(4)、玻璃套管封装:用开放型的玻璃套管封装经过金属镀膜处理的H形微纳光纤,制成H形微纳米光纤表面等离激元传感器。

所述步骤(1)中使用到的氢氟酸的浓度为40%。

所述步骤(3)中的金属薄膜为金、银、铝或铂金属薄膜。

本发明的有益效果是:

1、H形微纳光纤具有很好的偏振效应,激发的表面等离激元能形成偏振干涉,能极大的增加现有的光纤表面等离激元响应传感器的灵敏度。

2、灵敏度高,响应速度快,感应区域小,采用窄线宽光源,检测距离远。

3、本发明的传感器由单模光纤加工而成,制作成本较低,便于推广使用。

4、本发明使用的单模光纤,直径很小,可以用在很小容积的情况下,且能适应于较复杂的工作环境里,应用广泛。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明的侧视结构示意图。

图3是本发明的俯视结构示意图。

图4是本发明的剖视结构示意图。

图5是本发明在应用中的的示例光谱。

图中标记:1、纤芯,2、包层,3、金属薄膜,4、玻璃套管。

具体实施方式

以下是本发明的具体实施例:

实施例1

(1)、光纤腐蚀处理:用氢氟酸溶液、氟化铵和水配制氢氟酸缓冲溶液,取单模光纤对其圆周面上对称的两侧进行腐蚀处理,腐蚀深度使内腐蚀平面距离纤芯20μm处,两侧的内腐蚀平面相互平行,腐蚀宽度为246.8μm;

其中,氢氟酸缓冲溶液的配比为按体积比氢氟酸溶液:氟化铵: 水=3:7:10;其中氢氟酸的浓度为40%。

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