[发明专利]记录设备及程序有效
申请号: | 201210040616.2 | 申请日: | 2012-02-21 |
公开(公告)号: | CN102649350A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | 樱田裕一 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王冉;杨梧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 设备 程序 | ||
技术领域
本发明涉及喷墨打印机等记录设备。
背景技术
喷墨式的记录设备使搭载有记录头的托架沿主扫描方向往复移动,在其往复移动时从记录头的喷嘴列中喷出墨水,在记录媒介上记录像(点)。并且,使用搬运辊等沿副扫描方向搬运记录介质,重复进行主扫描方向的记录,在记录介质上形成图像。
另外,在上述记录设备的有些机种中设有液体喷出不良检测装置,该液体喷出不良检测装置具有向着从记录头的喷嘴列喷出的墨滴发出光的发光元件、及接收该发光元件发出的光的受光元件,并设置为发光元件发出的光与飞翔的墨滴冲突,并从受光元件的输出变化检测出墨滴的喷出不良。
例如,如图28(A)所示,从记录头的喷嘴面Hm的喷嘴孔Nx喷出墨滴b1。之后,连续地喷出多个墨滴b2、b3(参见图28(B)),墨滴在飞翔中合体,不久变成一个墨滴B(参见图28(C)、(D))。这时,将在墨滴B后飞翔未合体、未成为墨滴B的墨滴称为卫星体(satellite)Bs。由于该卫星体Bs比墨滴B更小,因此更容易受空气阻力的影响,不久就从墨滴B的飞翔轨迹脱离而开始浮游(参见图28(E)、(F))。将该浮游的卫星体Bs称为喷雾(mist)m。
图29表示从光束LB的照射方向观察液体喷出不良检测装置的状态。通常,在液体喷出不良检测装置中设有发出光的发光元件、以发光元件发出的光为平行光形成光束LB的准直镜、及遮盖接收发光元件发出的光的受光元件的检测装置盒SC。但在本图中将发光元件、准直镜、及受光元件省略。并且,在检测装置盒SC的上部,具有设有使墨滴穿过的开口K的喷雾遮蔽板T。在检测装置盒SC的下部,开有通向废液箱的开口部,从而可将为进行液体喷出不良检测而喷出的墨滴B排出成为废液。
另一方面,在图29所示的结构中,当从配置在光束LB的上部的喷嘴头H的喷嘴孔Nx喷出墨滴B时,该墨滴B穿过开口K与光束LB冲突,从而产生散射光。并且,与墨滴B的喷出同时产生的卫星体Bs如上所述浮游而变成喷雾m。喷雾m与墨滴B一样通过开口K进入到光束LB的光路上,由该喷雾m也产生散射光,并由受光元件接收。
图30是表示经过的时间t1、t2、...t6、与在各经过的时间从各个喷嘴孔Nx喷出墨滴B时的由受光元件得到的电压值VPD之间的关系。如图30所示,喷雾m成群后随着时间的经过在光束LB的光路上浮游,尽管未喷出墨滴B,但从时间tm开始电压值一直上升。例如,在时间t4处,当喷雾m在光束LB内浮游而电压值上升时,即便在喷嘴孔Nx未发生喷出时,也由于会检测出比阈值VSH大的值,因此会判断在时间t4从喷嘴孔Nx的喷出为正常。这样,存在当喷雾m浮游时,会发生液体喷出不良的误检的问题。
由此,作为较本发明更早申请的技术文献,存在公开了关于防止因喷雾的浮游而引起的液体喷出不良误检的技术的文献(例如参见专利文献1)。
在专利文献1中,以位于围绕墨滴的飞翔方向的方式设置电极,通过在电极上施加电压来静电吸附喷雾,将成为液体喷出不良的误检原因的喷雾除去。
现有技术文献如下:
专利文献1:(日本)特开2009-298000号公报
发明内容
本发明要解决的课题如下:
然而,专利文献1的发明,通过在电极上施加电压,不仅会吸附喷雾还会吸附墨滴,因此发生不能检测墨滴的情况。
本发明鉴于上述的问题点,以提供可抑制喷雾的浮游、并可更准确地检测墨滴的记录设备及程序为目的。
用于解决上述课题的手段如下:
本发明为达成上述目的,具有以下特征。
本发明之记录设备,其特征在于,包括:多个喷嘴,所述多个喷嘴喷出墨水;发光部,所述发光部发出光;受光部,所述受光部接收因所述发光部发出的光与从所述喷嘴喷出的墨水相交而产生的散射光并输出第1输出信号;喷嘴驱动单元,所述喷嘴驱动单元使墨水依次从所述多个喷嘴喷出;检测单元,所述检测单元根据表示所述第1输出信号的变化量的第2输出信号来检测有无墨水喷出,其中,当所述第1输出信号高于预定的第1阈值时,停止通过所述喷嘴驱动单元进行的喷出操作及通过所述检测单元进行的有无所述墨水喷出的检测,当所述第1输出信号低于第2阈值时,进行通过所述喷嘴驱动单元进行的喷出操作及通过所述检测单元进行的有无所述墨水喷出的检测,其中所述第2阈值为小于等于所述第1阈值的值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210040616.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体封装结构的制法
- 下一篇:隔震支承