[发明专利]图案转印装置以及图案转印方法

说明书

技术领域

本发明涉及利用纳米压印法将微小凹凸图案转印到被转印材料上的图案转印装置以及图案转印方法。

背景技术

近年来，在液晶显示器的防反射薄膜、导光板等光学部件、细胞培养片等生物装置、太阳能电池、发光装置等电子装置中，为了提高其性能并显现所希望的作用，使用着在各种材料的表面形成了微小凹凸图案的部件。

以往，作为形成微小的凹凸图案的技术，已知有纳米压印技术(例如，参照专利文献1、专利文献2及非专利文献1)。

该纳米压印技术，是指把具有纳米尺寸的微小凹凸图案的模、模压到涂敷于基板表面的树脂、从而进行转印的技术。顺便提及，专利文献1、专利文献2及非专利文献1的转印技术，是在树脂上按压花式按压平板状模的技术。

另外，还已知使用了滚筒型模的转印技术(例如，参照专利文献3及非专利文献2)。根据该转印技术，由于可以连续地向连续旋转的模供给被转印材料，故与使用平板状模的压花式的转印技术(例如，参照专利文献1、专利文献2及非专利文献1)相比，可以使转印工序高速化。

另外，本发明者公开了使用带型模的转印技术(参照专利文献4及专利文献5)。根据该转印技术，通过对被转印材料供给带型模，与使用平板状模的压花式的转印技术(例如，参照专利文献1、专利文献2及非专利文献1)相比，可以使转印工序高速化，同时能进一步提高图案转印精度。

可是，在纳米压印技术中，一般来讲，为了防止模和被转印材料附着在一起，预先在整个模上形成由与模表面的化学种态进行共价键结合那样的氟系材料等组成的脱模层。这样的脱模层随着反复进行图案转印，构成脱模层的材料发生脱落，脱模性逐渐降低。因此，当模的转印不良或在模上发生孔眼堵塞时，需要把模更换成新的模，或是进行在模表面上新形成出脱模层的再生处理。

与此相对的是，在专利文献4及专利文献5的转印技术中，在反复进行了多次图案转印后的模表面上，逐次供给不与该模表面的化学种态发生共价键结合而是吸附在模表面上的非反应型脱模剂。因此，根据该转印技术，可以防止模的脱模性降低，同时可以防止模的转印不良、孔眼堵塞。

先前技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利第5259926号说明书

专利文献2：美国专利第5772905号说明书

专利文献3：日本特开2006-326948号公报

专利文献4：日本特开2009-158731号公报

专利文献5：日本特开2009-078521号公报

非专利文献

非专利文献1：S.Y.Chou et al.，Appl.Phys.Lett.，vol.67，p.3114(1995)

非专利文献2：Hua Tan et al.，J.Vac.Sci.Technol.B16(6)，p.3926(1998)

发明内容

发明要解决的问题

但是，在对模表面逐次供给非反应型脱模剂的脱模处理(参照专利文献4及专利文献5)中，每当进行图案转印时，模表面的非反应型脱模剂都向被转印材料的表面移动。另外，该非反应型脱模剂的移动量，换言之是非反应型脱模剂向被转印材料表面的附着量，在把非反应型脱模剂刚供给到模表面之后和反复进行了多次图案转印之后是不同的。因此，担心在被转印材料上进行图案转印而得到的产品(装置)的性能会出现偏差。

另外，不限于对这样的模表面的脱模处理，在连续进行图案转印同时在模或者被转印材料上实施规定处理的情况下，也与其同样，担心所得到的产品(装置)的性能会出现偏差。

因此，本发明的课题在于提供可以使对被转印材料进行图案转印而得到的产品(装置)的性能稳定的图案转印装置以及图案转印方法。

用于解决问题的手段

解决上述问题的本发明的图案转印装置，通过在将具有微小的凹凸图案的模按压在被转印材料上之后从所述被转印材料剥离所述模，向所述被转印材料的表面转印所述凹凸图案，其特征在于，具备：前处理机构，该前处理机构在进行图案转印之前对所述模或者所述被转印材料实施规定的表面处理；信息记录机构，该信息记录机构将与由所述前处理机构实施的所述表面处理相关的信息，记录到与所述被转印材料的进行了图案转印的区域有关联的位置上；识读机构，该识读机构读取被记录的所述信息；和后处理机构，该后处理机构基于由所述识读机构识读出的所述信息，对所述进行了图案转印的区域的所述被转印材料实施规定的后处理。